[发明专利]图案描绘装置有效
申请号: | 201880069602.9 | 申请日: | 2018-10-22 |
公开(公告)号: | CN111279244B | 公开(公告)日: | 2022-03-18 |
发明(设计)人: | 加藤正纪;中山修一 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | G02B26/10 | 分类号: | G02B26/10;G02B13/00;G02B13/18;G02B26/12;G03F7/20 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 王天尧;汤在彦 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 图案 描绘 装置 | ||
1.一种图案描绘装置,其特征在于,其是借由将来自光源装置的光束于被照射体上聚光为光点进行投射并且利用反射偏向构件于主扫描方向上一维扫描上述光点而于上述被照射体上描绘图案者,其具备:
第1光学系统,其供来自上述光源装置的上述光束入射,且具有使朝向上述反射偏向构件的反射面的上述光束于与上述主扫描方向正交的副扫描方向上收敛的各向异性的折射率;
扫描用光学系统,其用以供借由上述反射偏向构件的反射面偏向的上述光束入射,且将上述光束于上述被照射体上聚光为光点;及
第2光学系统,其具有使自上述扫描用光学系统射出并朝向上述被照射体的上述光束于上述副扫描方向上收敛的各向异性的折射率;且
以于上述扫描用光学系统的视野内通过光束扫描范围的周边像高的位置而入射至上述第2光学系统前产生的上述光束的弧矢彗星像差引起的弯曲量成为艾瑞斑半径以下的方式,设定上述第2光学系统的焦距。
2.如权利要求1所述的图案描绘装置,其特征在于,其中:
将通过上述扫描用光学系统及上述第2光学系统而聚光于上述被照射体的上述光束的上述主扫描方向的数值孔径设为NAm,将上述副扫描方向的数值孔径设为NAs,将上述光束的中心波长设为λo时,上述艾瑞斑半径ADm由以下所示的公式(1)设定,
[式1]
3.如权利要求2所述的图案描绘装置,其特征在于,其中:
将上述扫描用光学系统的视野内的周边像高设为Hy,将上述扫描用光学系统的焦距设为ft,将上述第2光学系统的焦距设为fcb,将因上述弧矢彗星像差产生的上述弯曲量设为Dsc,且设为FN=(fcb·NAs/Hy)2+1时,以由以下所示的公式(2)求出的上述弯曲量Dsc相对于上述艾瑞斑半径ADm成为Dsc<ADm的范围的方式,设定上述第2光学系统的焦距fcb,
[式2]
4.如权利要求3所述的图案描绘装置,其特征在于,其中:
将上述第1光学系统的焦距设为fca时,基于以成为上述Dsc<ADm的范围的方式设定的上述第2光学系统的焦距fcb及上述扫描用光学系统的焦距ft,以满足以下所示的公式(3)的关系的方式设定上述焦距fca,
[式3]
fca·fcb=ft2…(3)。
5.如权利要求4所述的图案描绘装置,其特征在于,其中:
上述反射偏向构件是具有用以将来自上述第1光学系统的上述光束于上述主扫描方向的一个朝向上反复偏向的多个反射面且旋转的多面镜,且
将上述扫描用光学系统的上述多面镜的侧设为物侧,将上述被照射体的侧设为像侧时,将对应于因伴随着上述多面镜的旋转的上述反射面的角度变化产生的物侧散焦量,而产生的上述光点的像侧散焦量设定于焦点深度的范围内。
6.如权利要求5所述的图案描绘装置,其特征在于,其中:
将上述物侧散焦量设为ΔDop,将上述像侧散焦量设为ΔDip,将由上述扫描用光学系统与上述第2光学系统的合成系统产生的上述副扫描方向的焦点深度设为DOFs时,以借由上述焦距ft及上述焦距fcb并由以下所示的公式(4)的关系决定的上述像侧散焦量ΔDip,与借由上述波长λo及上述数值孔径NAs并由以下所示的公式(5)的关系决定的上述焦点深度DOFs成为ΔDip≦DOFs的方式,设定上述第2光学系统的焦距fcb,
[式4]与[式5]
7.如权利要求6所述的图案描绘装置,其特征在于,其中:
上述第2光学系统的焦距fcb是以弯曲量Dsc与上述艾瑞斑半径ADm成为Dsc<ADm、且上述像侧散焦量ΔDip与上述焦点深度DOFs以成为ΔDip≦DOFs的方式设定。
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