[发明专利]图案描绘装置

说明书

本发明提供一种图案描绘装置，其具备：第1圆柱透镜CYa，其供来自光源装置的光束LB入射，且具有使朝向多面镜PM的反射面RPa的光束LB于与主扫描方向正交的副扫描方向上收敛的各向异性的折射率；fθ透镜系统FT，其用以供借由多面镜PM的反射面RPa偏向的光束LB入射，且将该光束LB于被照射体的表面Po上聚光为点光SP；及第2圆柱透镜CYb，其具有使自fθ透镜系统FT射出并朝向表面Po的光束LB于副扫描方向上收敛的各向异性的折射率。以于fθ透镜系统FT的视野内通过光束扫描范围的周边像高的位置而入射至第2圆柱透镜CYb前产生的光束LB的弧矢彗星像差引起的弯曲量成为艾瑞斑半径以下的方式，设定上述第2光学系统的焦距。

技术领域

本发明是关于一种使用在主扫描方向上一维地扫描光束的光束扫描装置而对基板描绘既定图案的图案描绘装置。

背景技术

已知有借由使用扫描用光学系统(fθ透镜系统等)及多面镜(旋转多面镜)，能够等速地扫描投射至感光材料上的光束。一般的多面镜的各反射面是形成为平行于与多面镜的旋转面(包含旋转方向的平面)正交的面，但实际的反射面伴随有如相对于与多面镜的旋转面正交的面略微倾斜的误差、所谓面倾斜(倾斜)误差。因即便该误差为加工上的公差内亦于每个反射面略微具有偏差，又，存在依存于多面镜的旋转轴的轴承性能的轴偏移等原因，而借由fθ透镜系统聚光于感光材料上的点光的像位置(光束的投射位置)于多面镜的每个反射面偏移。

为了防止该投射位置的偏移，于日本特开平8-297255号公报中，在多面镜的近前及fθ透镜系统后的两个部位，配置有仅于相对于多面镜的偏向方向(主扫描方向、多面镜的旋转方向)正交的方向上具有折射率的圆柱透镜。即，配置有母线与光束的主扫描方向平行的两个圆柱透镜。借此，于与光束的扫描方向(主扫描方向)正交的方向(副扫描方向)上，可使多面镜的反射面上与感光材料的被照射面成为光学共轭关系，即便在可能产生于多面镜的每个反射面的面倾斜误差产生偏差，亦可将光束于感光材料上的投射位置于副扫描方向上保持为固定。

于如日本特开平8-297255号公报般，借由多面镜的前段的第1圆柱透镜、及fθ透镜系统的后段的第2圆柱透镜修正多面镜的面倾斜误差的光束扫描装置中，在更加缩小投射至被照射面上的光束的点光，而描绘更微细的图案的情形时，必须预先使对应于此产生的各种光学误差(像差)、例如光束的彗星像差、聚焦误差、球面像差等亦降低为与应描绘的图案的微细度(最小像素尺寸)对应的范围。

发明内容

本发明的第1实施例是借由将来自光源装置的光束于被照射体上聚光为光点进行投射，并且利用反射偏向构件于主扫描方向上一维扫描上述光点而于上述被照射体上描绘图案的图案描绘装置，其具备：第1光学系统，其供来自上述光源装置的上述光束入射，且具有使朝向上述反射偏向构件的反射面的上述光束于与上述主扫描方向正交的副扫描方向上收敛的各向异性的折射率；扫描用光学系统，其用以供借由上述反射偏向构件的反射面偏向的上述光束入射，且将该光束于上述被照射体上聚光为光点；及第2光学系统，其具有使自上述扫描用光学系统射出并朝向上述被照射体的上述光束于上述副扫描方向上收敛的各向异性的折射率；且以于上述扫描用光学系统的视野内通过光束扫描范围的周边像高的位置而入射至上述第2光学系统前产生的上述光束的弧矢彗星像差引起的弯曲量成为艾瑞斑半径以下的方式，设定上述第2光学系统的焦距。

附图说明

图1表示第1实施形态的光束扫描装置的概略性的构成，图1中的(A)表示将纸面内示为副扫描方向的构成，图1中的(B)表示将纸面内示为主扫描方向的构成。

图2表示用以说明图1所示的光束扫描装置的光学的作用的概略构成，图2中的(A)是对应于图1中的(A)于XZ面内观察光束扫描装置所得者，图2中的(B)是对应于图1中的(B)于XY面内观察光束扫描装置所得者。

图3是仅选取图2所示的光束LB中的主光线PLc及弧矢彗星像差光线PLu、PLd并夸大地进行表示的图，图3中的(A)是于XZ面内(与副扫描方向平行的面内)观察所得的图，图3中的(B)是于XY面内(与主扫描方向平行的面内)观察所得的图。