[发明专利]用于极端翘曲晶片的衬底处置设备

权利要求书

1.一种衬底处置设备，其包括：

叉形结构，其包含第一支撑部分及第二支撑部分，其中所述第一支撑部分及所述第二支撑部分经布置以提供对衬底的背面的接取以将所述衬底放置于支撑结构上；

第一主动支撑元件及第二主动支撑元件，其安置于所述叉形结构上，所述第一主动支撑元件及所述第二主动支撑元件安置于所述叉形结构的所述第一支撑部分与所述第二支撑部分之间；及

多个被动支撑元件，其安置于所述叉形结构上，其中所述第一主动支撑元件及所述第二主动支撑元件经配置而使得所述衬底的重心定位于所述第一主动支撑元件及所述第二主动支撑元件的前面。

2.根据权利要求1所述的设备，其中所述第一主动支撑元件及所述第二主动支撑元件经配置以在将所述衬底放置于所述第一主动支撑元件及所述第二主动支撑元件上时引起所述衬底与所述多个被动支撑元件的部分之间的接触。

3.根据权利要求1所述的设备，其中所述第一主动支撑元件包括第一吸取元件，且所述第二主动支撑元件包括第二吸取元件。

4.根据权利要求3所述的设备，其中所述第一吸取元件及所述第二吸取元件通过所述叉形结构的一或多个真空通道来流体地耦合到真空。

5.根据权利要求1所述的设备，其中所述多个被动支撑元件包括多个支撑垫。

6.根据权利要求2所述的设备，其中所述多个支撑垫中的至少一些经纹理化。

7.根据权利要求2所述的设备，其中所述多个支撑垫中的至少一些是电绝缘的。

8.根据权利要求1所述的设备，其中所述多个被动支撑元件包括：

一或多个第一支撑垫，其安置于所述叉形结构的所述第一支撑部分上；及

一或多个第二支撑垫，其安置于所述叉形结构的所述第二支撑部分上。

9.根据权利要求8所述的设备，其中所述多个被动支撑元件进一步包括：

一或多个额外支撑垫，其安置于所述叉形结构的额外支撑部分上，其中所述额外支撑区段形成所述叉形结构的基座。

10.根据权利要求1所述的设备，其中所述支撑结构包括处理工具或特征化工具中的至少一者的卡盘。

11.根据权利要求1所述的设备，其中所述支撑结构包括晶片转移装置的支撑结构。

12.根据权利要求11所述的设备，其中所述晶片转移装置包括前开式晶片传送盒FOUP。

13.根据权利要求1所述的设备，其中叉形结构机械地耦合到可致动机械臂。

14.根据权利要求1所述的设备，其中衬底包括晶片。

15.根据权利要求14所述的设备，其中晶片具有凸形形状、凹形形状或鞍形形状中的至少一者。

16.根据权利要求14所述的设备，其中晶片含有随机局部翘曲。

17.一种衬底处置设备，其包括：

叉形结构，其包含第一支撑部分及第二支撑部分，其中所述第一支撑部分及所述第二支撑部分经布置以提供对衬底的背面的接取以将所述衬底放置于支撑结构上；

第一主动支撑元件及第二主动支撑元件，其安置于所述叉形结构上，所述第一主动支撑元件及所述第二主动支撑元件安置于所述叉形结构的所述第一支撑部分与所述第二支撑部分之间；及

一或多个被动支撑元件，其安置于所述叉形结构上，其中所述第一主动支撑元件及所述第二主动支撑元件经配置而使得所述衬底的重心定位于所述第一主动支撑元件及所述第二主动支撑元件的前面。