[发明专利]具有探针后可配置度的半导体装置在审

专利信息
申请号: 201880075965.3 申请日: 2018-10-02
公开(公告)号: CN111418062A 公开(公告)日: 2020-07-14
发明(设计)人: J·E·戴维斯;K·G·杜斯曼;J·P·莱特;W·L·博耶 申请(专利权)人: 美光科技公司
主分类号: H01L27/11524 分类号: H01L27/11524;H01L23/00;H01L23/528;H01L27/02;H01L25/065
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 王龙
地址: 美国爱*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 具有 探针 配置 半导体 装置
【权利要求书】:

1.一种半导体装置组合件,其包括:

衬底;

裸片,其经耦合到所述衬底,所述裸片包含:

第一接触垫,其经电耦合到所述裸片上的第一电路,所述第一电路包含至少一个有源电路元件,

第二接触垫,其经电耦合到所述裸片上的第二电路,所述第二电路仅包含无源电路元件,及

电镀垫,其将所述第一接触垫的至少一部分电耦合到所述第二接触垫的至少一部分;

其中所述衬底包含经电耦合到所述裸片上的所述电镀垫的衬底接点。

2.根据权利要求1所述的半导体装置组合件,其中所述裸片是第一裸片,所述半导体装置组合件进一步包括:

第二裸片,其包含:

第三接触垫,其经电耦合到所述第二裸片上的第三电路,所述第三电路包含至少一第二有源电路元件,及

第四接触垫,其经电耦合到所述第二裸片上的第四电路,所述第四电路仅包含无源电路元件;

其中所述衬底接点经电耦合到所述第二裸片上的所述第三接触垫。

3.根据权利要求2所述的半导体装置组合件,其中所述第二裸片上的所述第四接触垫从所述衬底接点电断开。

4.根据权利要求2所述的半导体装置组合件,其中所述第二裸片进一步包含将所述第三接触垫的至少一部分电耦合到所述第四接触垫的至少一部分的另一电镀垫。

5.根据权利要求4所述的半导体装置组合件,其中所述第一及第二裸片是相同裸片,其中所述第一裸片上的所述第一接触垫对应于所述第二裸片上的所述第三接触垫,且所述第一裸片上的所述第二接触垫对应于所述第二裸片上的所述第四接触垫。

6.根据权利要求2所述的半导体装置组合件,其中所述第一及第二裸片以叠瓦配置堆叠。

7.根据权利要求1所述的半导体装置组合件,其中所述第一裸片进一步包含经电耦合到所述第一裸片上的第五电路的第五接触垫,所述第五电路仅包含无源电路元件,且其中所述电镀垫进一步将所述第一接触垫的至少所述部分及所述第二接触垫的至少所述部分电耦合到所述第五接触垫的至少一部分,使得所述衬底接点经电耦合到所述第五接触垫。

8.根据权利要求1所述的半导体装置组合件,其中所述第一电路是驱动器电路。

9.根据权利要求1所述的半导体装置组合件,其中所述第二电路包含一或多个电容器以提供静电放电ESD保护。

10.根据权利要求1所述的半导体装置组合件,其中所述衬底接点通过线接合电耦合到所述电镀垫。

11.根据权利要求1所述的半导体装置组合件,其中裸片是NAND存储器裸片。

12.一种半导体装置组合件,其包括:

衬底,其包含衬底接点;及

多个半导体裸片,其各自包含:

第一接触垫,其经电耦合到所述半导体裸片上的第一电路,所述第一电路包含至少一个有源电路元件,及

第二接触垫,其经电耦合到所述半导体裸片上的第二电路,所述第二电路仅包含无源电路元件;

其中全部所述多个半导体裸片的所述第一接触垫经电耦合到所述衬底接点,且

其中所述多个半导体裸片中的至少一者进一步包含将所述第一接触垫的至少一部分电耦合到所述第二接触垫的至少一部分的电镀垫。

13.根据权利要求12所述的半导体装置组合件,其中所述多个半导体裸片中的每一者的所述第一电路是驱动器电路。

14.根据权利要求12所述的半导体装置组合件,其中所述多个半导体裸片中的每一者的所述第二电路包含一或多个电容器以提供静电放电ESD保护。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于美光科技公司,未经美光科技公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201880075965.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top