[发明专利]负型感光性硅氧烷组合物、以及使用了其的固化膜和电子器件的制造方法在审

专利信息
申请号: 201880076350.2 申请日: 2018-11-26
公开(公告)号: CN111386499A 公开(公告)日: 2020-07-07
发明(设计)人: 林昌伸 申请(专利权)人: 默克专利有限公司
主分类号: G03F7/075 分类号: G03F7/075;G03F7/004;G03F7/40
代理公司: 北京三幸商标专利事务所(普通合伙) 11216 代理人: 刘卓然
地址: 德国达*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 感光性 硅氧烷 组合 以及 使用 固化 电子器件 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种负型感光性组合物,其包含(I)聚硅氧烷、(II)光碱产生剂、以及(III)溶剂,

所述聚硅氧烷是包含由以下的式(Ia)以及以下的式(Ib)表示的重复单元的聚硅氧烷,

利用FT-IR法对所述聚硅氧烷进行了测定以及解析时,处于1100±100cm-1的范围的归属于Si-O的吸收带的面积强度S1与处于900±100cm-1的范围的归属于SiOH的吸收带的面积强度S2之比S2/S1为0.05~0.15,

式中,

R1表示氢,1~3价的C1~30的直链状、支链状或者环状的饱和或不饱和的脂肪族烃基,或者1~3价的C6~30的芳香族烃基,

在所述脂肪族烃基以及所述芳香族烃基中,1个以上的亚甲基被氧基、酰亚胺或者羰基取代了或者非取代,1个以上的氢被氟、羟基、或者烷氧基取代了或者非取代,或者1个以上的碳被硅取代了或者非取代,

R1为2价或3价的情况下,R1将多个重复单元中所含的Si彼此进行连结;

所述光碱产生剂由以下的式(PBG-A)或者(PBG-B)表示,

式中,

RA1~RA6各自独立地为氢、卤素、羟基、巯基、硫醚、甲硅烷基、硅烷醇、硝基、亚硝基、亚磺基、磺基、磺酸根、膦基、氧膦基、膦酰基、膦酸根、氨基、铵、取代或者非取代的C1~20的脂肪族烃基、取代或者非取代的C6~22的芳香族烃基、取代或者非取代的C1~20的烷氧基、或者取代或者非取代的C6~20的芳氧基,

RA7以及RA8各自独立地为C1~6的羟基烷基,或者RA7以及RA8利用C2~9的亚烷基进行结合而形成环状结构,在所述环状结构上结合着C1~6的羟基烷基,

RB1~RB8各自独立地为氢、取代或者非取代的C1~20的脂肪族烃基、取代或者非取代的C6~22的芳香族烃基、取代或者非取代的C1~20的烷氧基、或者取代或者非取代的C6~20的芳氧基,

X-是硼酸根离子或者羧酸根离子,其具有取代或者非取代的C1~20的脂肪族烃基、取代或者非取代的C6~22的芳香族烃基。

2.根据权利要求1所述的组合物,其中,所述聚硅氧烷在末端或者侧链具有硅烷醇。

3.根据权利要求1或2所述的组合物,其中,所述R1为氢,C1~6的直链状、支链状或者环状的烷基,或者C6~10的芳基。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的组合物,其中,所述聚硅氧烷包含选自由以下的式(i-1)、(i-2)以及(i-3)组成的组中的重复单元的组合,

所述重复单元(i-1)、(i-2)、以及(i-3)的配混摩尔比p1、p2、以及p3为0.4≤p1≤0.8、0≤p2≤0.4、且0.2≤p3≤0.6。

5.根据权利要求1~4中任一项所述的组合物,其中,所述聚硅氧烷的质均分子量为1,000~10,000。

6.根据权利要求1~5中任一项所述的组合物,其中,所述聚硅氧烷中所含的重复单元(Ib)相对于重复单元的总和的配混比为20mol%以上。

7.根据权利要求1~6中任一项所述的组合物,其中,所述光碱产生剂选自由以下的式(PBG-A1)~(PBG-A8)以及(PBG-B1)~(PBG-B2)组成的组中

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