[发明专利]一种反射型屏幕及其制备方法有效
申请号: | 201880076764.5 | 申请日: | 2018-07-19 |
公开(公告)号: | CN111406231B | 公开(公告)日: | 2021-10-22 |
发明(设计)人: | 丁钟国;张昌泳;李在浩;李相文;边娜恩;白雨成;朴澈镐 | 申请(专利权)人: | 株式会社SELCOS;(株)美 |
主分类号: | G03B21/60 | 分类号: | G03B21/60;G02B5/00;G02B5/08 |
代理公司: | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人: | 薛琦 |
地址: | 韩国京畿道华城*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 反射 屏幕 及其 制备 方法 | ||
1.一种反射型屏幕的制备方法,其特征为,
作为在真空条件下的真空腔内用于在基板的一面上形成光反射膜和吸光膜的反射型屏幕的制造方法,包括:
准备基板,其一面平行形成多个突起的步骤;
形成金属种子以使所述各突起的第1面具有不均匀凹凸结构的步骤;
在所述各突起的第1和第2面上形成金属层的步骤,其中该金属层为Al层;
使所述各突起的第2面上形成的金属层离子化的步骤,在所述各突起的第2面上形成的金属层与氮离子发生反应形成AlNx层;以及
在所述各突起的第1面的金属层和第2面的离子化的金属层上同时形成防氧化层的步骤。
2.根据权利要求1的反射型屏幕的制备方法,其特征为,
形成所述金属种子的步骤通过离子轰击处理完成,所使用的第1靶材由SUS或Ti材质构成。
3.根据权利要求1的反射型屏幕的制备方法,其特征为,
形成所述金属层的步骤通过溅射处理完成,所使用的第2靶材是由纯铝材质构成。
4.根据权利要求3的反射型屏幕的制备方法,其特征为,
所述溅射是在所述第2靶材和所述突起的第1面保持100mm~200mm间距的状态下形成的。
5.根据权利要求4的反射型屏幕的制备方法,其特征为,
所述溅射入射角度是相对垂直线倾斜30°~60°,从而向所述突起的第1面放射离子。
6.根据权利要求2的反射型屏幕的制备方法,其特征为,
形成所述防氧化层的步骤通过溅射处理完成,所使用的第3靶材由SiO2材质构成。
7.一种反射型屏幕,其特征为,所述反射型屏幕通过如权利要求1所述的制备方法所形成,所述反射型屏幕包括:
基板;
在所述基板的一面上平行形成并具有三角形状断面的多个突起;
由所述各突起的第1面上溅镀的第1金属层和在所述第1金属层的上面溅镀的防氧化层形成的光反射膜;以及
由所述各突起的第2面上溅镀的第2金属层并在所述第2金属层上通过氮离子形成AlNx层和在所述AlNx层的上面溅镀的防氧化层形成的吸光膜;
其中,所述第1金属层和所述第2金属层均是Al层,所述防氧化层是SiO2层。
8.根据权利要求7的反射型屏幕,其特征为,
所述第1金属层的厚度为25nm~35nm。
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