[发明专利]一种反射型屏幕及其制备方法

说明书

本发明涉及用于在真空条件下的真空腔内在基板的一面上形成光反射膜和吸光膜的反射型屏幕的制造方法，其特征为包括：准备基板，其一面平行形成多个突起的步骤；形成金属种子以使所述各突起的第1面具有不均匀凹凸结构的步骤；在所述各突起的第1和第2面上形成金属层的步骤；使所述各突起的第2面上形成的金属层离子化的步骤；以及在所述各突起的第1面的金属层和第2面的离子化的金属层上同时形成防氧化层的步骤。

技术领域

本发明涉及一种反射型屏幕及其制备方法，具体来说是具有可约束照射屏幕的外部光线或人造光的吸光层以及反射从投影仪入射的影像的光反射层，因此即使是裸露在光亮的环境里也能呈现清晰画质的反射型屏幕及其制备方法。

背景技术

从投影仪入射的影像通过反射型屏幕向使用者一侧反射，从而可凭肉眼认知影像。

在外部光线较多的亮室里使用反射型屏幕时，屏幕下方的亮度相对较高，同时由于外部光线或照明等人造光，屏幕上方的亮度反而显得比屏幕下方的亮度要低。

这种反射型屏幕为了防止因外部光线或人造光使屏幕亮度降低并且能够清晰地看到整个影像，要求其结构为影像射出的一面形成阶梯状的突起，且各突起的上侧面形成吸光膜，下侧面形成光反射膜。

但问题是，为了制备具备此类结构的反射型屏幕必须经过复杂的工序，不仅制作时间加长，而且制作费用也会增加。

发明内容

【要解决的课题】

本发明的目的是提供一种可在单一装置内同时形成光反射膜和吸光膜的反射型屏幕的制备方法。

本发明的另一目的是通过所述提供反射型屏幕的方法，提供一种反射型屏幕，具有在基板上形成的突起形状上分别多层叠加而形成的光反射膜和吸光膜。

【课题的解决手段】

为达成以上目的，本发明提供一种反射型屏幕的制备方法，作为在真空条件下的真空腔内用于在基板的一面上形成光反射膜和吸光膜的反射型屏幕的制造方法，其特征为包括：准备基板，其一面平行形成多个突起的步骤；形成金属种子以使所述各突起的第1面具有不均匀凹凸结构的步骤；在所述各突起的第1和第2面上形成金属层的步骤；使所述各突起的第2面上形成的金属层离子化的步骤；以及在所述各突起的第1面的金属层和第2面的离子化的金属层上同时形成防氧化层的步骤。

形成所述金属种子的步骤通过离子轰击(ion bombardment)处理完成，所使用的第1靶材可由SUS或Ti材质构成。

形成所述金属层的步骤通过溅射处理完成，所使用的第2靶材可由纯铝(纯Al)材质构成。

所述溅射可在所述第2靶材和所述突起的第1面保持100mm～200mm间距的状态下形成。

所述溅射入射角度可以相对垂直线倾斜30°～60°，从而向所述突起的第1面放射离子。

在所述各突起的第2面上形成的金属层可与氮离子发生反应形成AlNx层。

形成所述防氧化层的步骤通过溅射处理完成，所使用的第3靶材可由SiO2材质构成。

另外，为了达到所述目的，本发明提供一种反射型屏幕，其特征为包括：

基板；在所述基板的一面上平行形成并具有三角形状断面的多个突起；由所述各突起的第1面上溅镀的第1金属层和在所述第1金属层的上面溅镀的防氧化层形成的光反射膜；以及由所述各突起的第2面上溅镀的第2金属层和在所述第2金属层的上面溅镀的防氧化层形成的吸光膜。

所述第1金属层可由纯铝(纯Al)形成，所述第2金属层可由AlNx形成，所述防氧化层可由SiO2形成。

所述第1金属层的厚度可为25-35nm。

【发明的效果】