[发明专利]硅氧烷化合物及其制造方法在审
申请号: | 201880076782.3 | 申请日: | 2018-11-09 |
公开(公告)号: | CN111417642A | 公开(公告)日: | 2020-07-14 |
发明(设计)人: | 冈村薫 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 |
主分类号: | C07F7/08 | 分类号: | C07F7/08;C08F30/08 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 杨贝贝;臧建明 |
地址: | 日本东京千代田区大手町二丁*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 硅氧烷 化合物 及其 制造 方法 | ||
1.一种制造方法,为含(甲基)丙烯酸基的硅氧烷的制造方法,所述制造方法中包括:
使下述式(2)所表示的化合物与(甲基)丙烯酸反应而获得下述式(I)所表示的化合物的步骤,
[化1]
(式中,R1~R3彼此独立地为碳数1~10的一价烃基、或者所述一价烃基的碳原子上所键结的氢原子的一部分或全部经卤素原子取代而成的基团,R4~R6彼此独立地为碳数1~10的一价烃基,x为1~3的整数,n为0~20的整数,在R1、R2及R3全部为未经取代的烃基的情况下,R1R2R3Si-基的表示硅原子上所键结的未经取代的烃基的立体体积的立体参数的值的总计为-5.00以下,在R1、R2及R3中的至少一个为经取代的烃基的情况下,将所述烃基的碳原子上所键结的卤素原子取代为氢原子时的所述立体参数的值的总计为-5.00以下);
[化2]
(式中,Q为下述(1)或(1′)所表示的二价基,各式中**所表示的部位为与所述式(I)中的氧原子的键结部位,
[化3]
R1~R6、n及x如上所述,R7为氢原子或甲基)。
2.根据权利要求1所述的制造方法,其中,所述式(2)中,R1R2R3Si-基所具有的所述立体参数的值的总计为-7.00以下。
3.根据权利要求1或2所述的制造方法,其中,在(甲基)丙烯酸的碱金属盐的存在下进行所述式(2)的化合物与(甲基)丙烯酸的反应。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的制造方法,其中,所述式(I)及式(2)中,R1、R2及R3中的至少一个为选自异丙基、叔丁基及苯基中的基团。
5.根据权利要求1至3中任一项所述的制造方法,其中,所述式(I)及式(2)中,所述R1R2R3Si-基为下述中的任一者;
[化4]
6.一种化合物,为下述式(I)所表示的化合物
[化5]
(式中,Q为下述(1)或(1′)所表示的二价基,各式中**所表示的部位为与所述式(I)中的氧原子的键结部位,
[化6]
R1~R3彼此独立地为碳数1~10的一价烃基、或者所述一价烃基的碳原子上所键结的氢原子的一部分或全部经卤素原子取代而成的基团,R4~R6彼此独立地为碳数1~10的一价烃基,R7为氢原子或甲基,x为1~3的整数,n为0~20的整数,在R1、R2及R3全部为未经取代的烃基的情况下,R1R2R3Si-基的表示硅原子上所键结的未经取代的烃基的立体体积的立体参数的值的总计为-5.00以下,在R1、R2及R3中的至少一个为经取代的烃基的情况下,将所述烃基的碳原子上所键结的卤素原子取代为氢原子时的所述立体参数的值的总计为-5.00以下)。
7.根据权利要求6所述的化合物,其中,式(I)中,具有各特定的一个n、x及R1~R7的一种(其中,可以是Q为所述(1)或(1′)所表示的基团的结构异构体的混合)在化合物的质量整体中构成超过95质量%。
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