[发明专利]硅氧烷化合物及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201880076782.3 申请日: 2018-11-09
公开(公告)号: CN111417642A 公开(公告)日: 2020-07-14
发明(设计)人: 冈村薫 申请(专利权)人: 信越化学工业株式会社
主分类号: C07F7/08 分类号: C07F7/08;C08F30/08
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 杨贝贝;臧建明
地址: 日本东京千代田区大手町二丁*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 硅氧烷 化合物 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种制造方法,为含(甲基)丙烯酸基的硅氧烷的制造方法,所述制造方法中包括:

使下述式(2)所表示的化合物与(甲基)丙烯酸反应而获得下述式(I)所表示的化合物的步骤,

[化1]

(式中,R1~R3彼此独立地为碳数1~10的一价烃基、或者所述一价烃基的碳原子上所键结的氢原子的一部分或全部经卤素原子取代而成的基团,R4~R6彼此独立地为碳数1~10的一价烃基,x为1~3的整数,n为0~20的整数,在R1、R2及R3全部为未经取代的烃基的情况下,R1R2R3Si-基的表示硅原子上所键结的未经取代的烃基的立体体积的立体参数的值的总计为-5.00以下,在R1、R2及R3中的至少一个为经取代的烃基的情况下,将所述烃基的碳原子上所键结的卤素原子取代为氢原子时的所述立体参数的值的总计为-5.00以下);

[化2]

(式中,Q为下述(1)或(1′)所表示的二价基,各式中**所表示的部位为与所述式(I)中的氧原子的键结部位,

[化3]

R1~R6、n及x如上所述,R7为氢原子或甲基)。

2.根据权利要求1所述的制造方法,其中,所述式(2)中,R1R2R3Si-基所具有的所述立体参数的值的总计为-7.00以下。

3.根据权利要求1或2所述的制造方法,其中,在(甲基)丙烯酸的碱金属盐的存在下进行所述式(2)的化合物与(甲基)丙烯酸的反应。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的制造方法,其中,所述式(I)及式(2)中,R1、R2及R3中的至少一个为选自异丙基、叔丁基及苯基中的基团。

5.根据权利要求1至3中任一项所述的制造方法,其中,所述式(I)及式(2)中,所述R1R2R3Si-基为下述中的任一者;

[化4]

6.一种化合物,为下述式(I)所表示的化合物

[化5]

(式中,Q为下述(1)或(1′)所表示的二价基,各式中**所表示的部位为与所述式(I)中的氧原子的键结部位,

[化6]

R1~R3彼此独立地为碳数1~10的一价烃基、或者所述一价烃基的碳原子上所键结的氢原子的一部分或全部经卤素原子取代而成的基团,R4~R6彼此独立地为碳数1~10的一价烃基,R7为氢原子或甲基,x为1~3的整数,n为0~20的整数,在R1、R2及R3全部为未经取代的烃基的情况下,R1R2R3Si-基的表示硅原子上所键结的未经取代的烃基的立体体积的立体参数的值的总计为-5.00以下,在R1、R2及R3中的至少一个为经取代的烃基的情况下,将所述烃基的碳原子上所键结的卤素原子取代为氢原子时的所述立体参数的值的总计为-5.00以下)。

7.根据权利要求6所述的化合物,其中,式(I)中,具有各特定的一个n、x及R1~R7的一种(其中,可以是Q为所述(1)或(1′)所表示的基团的结构异构体的混合)在化合物的质量整体中构成超过95质量%。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于信越化学工业株式会社,未经信越化学工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201880076782.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top