[发明专利]用于确定体积和/或质量流率的方法有效
申请号: | 201880081724.X | 申请日: | 2018-11-15 |
公开(公告)号: | CN111566458B | 公开(公告)日: | 2022-07-12 |
发明(设计)人: | 克里斯托夫·胡伯;帕特里克·赖特 | 申请(专利权)人: | 特鲁达因传感器股份有限公司 |
主分类号: | G01F1/88 | 分类号: | G01F1/88;G01F1/50;G01F1/36;G01F5/00 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 穆森;戚传江 |
地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 确定 体积 质量 方法 | ||
1.一种用于确定在管(20)中流动的介质(M)的体积和/或质量流率的方法,其中,流体(F)的密度和/或粘度借助于MEMS传感器芯片(30)来确定,其中在所述管(20)中流动的所述介质(M)至少部分流过所述MEMS传感器芯片(30)的测量通道(31)以确定所述流体(F)的密度和/或粘度,并且其中所述介质(M)的体积和/或质量流率借助于跨越所述MEMS传感器芯片(30)的所述测量通道(31)检查到的压降|p2-p1|和所述MEMS传感器(30)确定的密度和/或粘度来确定,与介质无关,
其中,所述MEMS传感器芯片包括可振荡单元,所述可振荡单元的振荡行为被检查,以便确定所述流体的所述密度和/或所述粘度。
2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述MEMS传感器芯片(30)的所述测量通道(31)以下述方式被连接到所述管(20):所述介质(M)完全流过所述MEMS传感器芯片(30)的所述测量通道(31),使得所述压降|p2-p1|基本上由所述MEMS传感器芯片(30)的所述测量通道(31)生成。
3.根据权利要求1所述的方法,其中,孔板(21)以下述方式被引入所述管中:所述介质平行地流过所述孔板和所述MEMS传感器芯片的所述测量通道,且所述压降(|p2-p1|)由引入所述管(20)中的所述孔板(21)和所述介质部分地流过的所述MEMS传感器芯片(30)的所述测量通道(31)生成。
4.根据权利要求3所述的方法,其中,所述孔板(21)和所述测量通道(31)以下述方式互相匹配:流过所述测量通道(31)的所述介质(M)与流过所述孔板(21)的所述介质(M)之间的流量比被设置为小于1:20。
5.根据权利要求3所述的方法,其中,所述孔板(21)和所述测量通道(31)以下述方式互相匹配:流过所述测量通道(31)的所述介质(M)与流过所述孔板(21)的所述介质(M)之间的流量比被设置为小于1:100。
6.根据权利要求3所述的方法,其中,所述孔板(21)和所述测量通道(31)以下述方式互相匹配:流过所述测量通道(31)的所述介质(M)与流过所述孔板(21)的所述介质(M)之间的流量比被设置为小于1:500。
7.一种用于确定在管(20)中流动的介质(M)的体积和/或质量流率(1)的设备,至少包括:
-MEMS传感器芯片(30),所述MEMS传感器芯片(30)具有测量通道(31),所述测量通道(31)连接到所述管(20)从而以下述方式确定所述介质(M)的密度和/或粘度:所述介质(M)至少部分地流过所述测量通道(31),
-压差测量装置(40),所述压差测量装置(40)用于检查跨越所述MEMS传感器芯片(30)的所述测量通道(31)的压降|p2-p1|,和
-评估单元(50),所述评估单元(50)被设置用于基于所述压差测量装置确定的压降|p2-p1|以及由所述MEMS传感器芯片(30)确定的密度和/或粘度来确定所述介质(M)的体积和/或质量流率,与介质无关,
其中,所述MEMS传感器芯片包括可振荡单元,所述可振荡单元的振荡行为被检查,以便确定流体的所述密度和/或所述粘度。
8.根据权利要求7所述的设备,其中,所述MEMS传感器芯片(30)以下述方式被连接到所述管(20):所述介质(M)完全流过所述MEMS传感器芯片(30)的所述测量通道(31),使得压降|p2-p1|基本上由所述MEMS传感器芯片(30)的所述测量通道(31)生成,并且所述压差测量装置(40)被进一步设计用于检查跨越所述MEMS传感器芯片(30)的所述测量通道(31)的压降。
9.根据权利要求7所述的设备,进一步包括孔板(21),所述介质(M)流过所述孔板(21),其中,所述孔板(21)和所述MEMS传感器芯片(30)的所述测量通道(31)以下述方式被引入所述管(20)中:所述介质(M)流过所述孔板(21)和所述测量通道(31)。
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