[发明专利]基板处理装置、基板处理方法以及计算机可读取记录介质

说明书

涂布显影装置具备：第一激光单元，其对涂布液照射激光光，并基于该激光光的变化来获取涂布液的状态；以及可否照射决定机构，其基于流路中的、比从第一激光单元向涂布液照射激光光的部位更靠液瓶一侧的涂布液，来决定第一激光单元可否照射向涂布液的激光光，其中，可否照射决定机构具有获取涂布液的颜色信息的第二激光单元和控制器，其中，控制器构成为执行以下处理：判定涂布液的颜色信息是否为容易吸收通过第一激光单元照射的光的波长的规定的颜色信息；以及基于判定结果来决定可否照射向涂布液的激光光。

技术领域

本发明涉及一种基板处理装置、基板处理方法以及计算机可读取记录介质。

背景技术

在专利文献1中记载了以下技术：作为对向基板供给的处理液中所包含的微小的异物(微粒或气泡等)进行检测的结构，对在流路中流动的处理液照射激光光，并且获取从光接收元件根据照射的激光光输出的信号，基于该信号来进行异物的数量、大小以及种类的判别。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2016-225574号公报

发明内容

发明要解决的问题

在此，根据向处理液照射的光的波长范围与处理液的颜色的组合，有可能由于处理液吸收光而引起处理液发生变质(进行药液改性)。

因此，本公开说明一种能够在对处理液照射光的结构中适当防止处理液发生变质的基板处理装置、基板处理方法以及计算机可读取记录介质。

用于解决问题的方案

本公开的一个方式所涉及的基板处理装置具备：光学测定机构，其对在流路中流动的基板的处理液照射光，并基于该光的变化来获取处理液的状态；以及可否照射决定机构，其基于在流路中的、比从光学测定机构向处理液照射光的部位更靠处理液的供给源一侧的处理液，来决定光学测定机构可否照射向处理液的光，其中，可否照射决定机构具有获取处理液的颜色信息的颜色信息获取机构和控制部，其中，控制部构成为执行以下处理：判定处理液的颜色信息是否为容易吸收通过光学测定机构照射的光的波长的规定的颜色信息；以及基于判定结果来决定可否照射向处理液的光，并输出表示该可否照射的信息。

在像这种基板处理装置中，基于比通过光学测定机构向处理液照射光的部位更靠上游侧的处理液，来判定处理液的颜色信息是否为容易吸收照射的光的波长的规定的颜色信息，并基于该判定的结果来决定可否照射向处理液的光。根据处理液的颜色与照射的光的波长范围的组合，有可能由于处理液吸收光而引起处理液发生变质。对于该点，在向处理液照射光之前的阶段，通过判定处理液的颜色信息是否为容易吸收光的波长的规定的颜色信息，能够判定处理液是否会由于照射的光而发生变质。然后，基于该判定的结果来决定可否照射向处理液的光，并输出表示该可否照射的信息，由此例如在流路中流动的处理液有可能由于来自光学测定机构的光而发生变质的情况下，能够进行停止来自光学测定机构的光的照射等的对应，从而能够适当地防止处理液发生变质。如上所述，根据本公开，在对处理液照射光的结构中，在即使由于一些失误而导致流出了与通常不同的处理液等的情况下，也能够适当地防止处理液发生变质。

也可以是，颜色信息获取机构具有色度计或摄像装置。颜色信息获取机构具有色度计或摄像装置，由此能够适当地把握处理液的颜色信息。