[发明专利]定位装置、光刻设备、补偿平衡质量块转矩的方法和器件制造方法在审
申请号: | 201880085060.4 | 申请日: | 2018-11-29 |
公开(公告)号: | CN111566565A | 公开(公告)日: | 2020-08-21 |
发明(设计)人: | W·F·J·西蒙斯;D·布拉卡玛;H·巴特勒;H·H·M·考克西;R·W·A·H·理纳尔斯;S·C·Q·利布雷尔;M·范杜伊霍温;M·W·J·E·威吉克曼斯 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H01L21/68 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 王璐璐 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 定位 装置 光刻 设备 补偿 平衡 质量 转矩 方法 器件 制造 | ||
1.一种定位系统,包括:
第一致动器,被配置为在可移动体上施加致动力,所述第一致动器耦接至平衡质量块,所述平衡质量块被配置为吸收由所述第一致动器生成的所述致动力所产生的反作用力,所述致动力提供所述可移动体的加速度,所述反作用力提供所述平衡质量块在相反方向上的加速度,其中,由所述可移动体的加速度产生的力与由所述平衡质量块的加速度产生的力一起产生平衡质量块转矩;
平衡质量块支撑件,被配置为将所述平衡质量块支撑到框架上,所述平衡质量块支撑件在支撑位置处接合所述框架;和
转矩补偿器;
其中所述转矩补偿器被配置为施加补偿力以补偿所述平衡质量块转矩,和
其中所述转矩补偿器被配置为在所述支撑位置处将所述补偿力施加到所述框架上。
2.根据权利要求1所述的定位系统,
其中所述平衡质量块支撑件包括第一平衡质量块支撑装置和第二平衡质量块支撑装置,所述第一平衡质量块支撑装置和所述第二平衡质量块支撑装置布置在所述平衡质量块的相反侧,
其中所述第一平衡质量块支撑装置在第一支撑位置处接合所述框架,并且
其中所述第二平衡质量块支撑装置在第二支撑位置处接合所述框架,并且
其中所述补偿器包括第一补偿器致动器和第二补偿器致动器,所述第一补偿器致动器被配置为在所述第一支撑位置处将第一补偿力施加到所述框架上,所述第二补偿器致动器被配置为在所述第二支撑位置处将第二补偿力施加到所述框架上,并且
其中所述第一补偿器致动器和所述第二补偿器致动器被配置为协作以在第一旋转方向上补偿所述平衡质量块转矩。
3.根据权利要求2所述的定位系统,
其中所述平衡质量块支撑件还包括第三平衡质量块支撑装置和第四平衡质量块支撑装置,所述第三平衡质量块支撑装置和所述第四平衡质量块支撑装置布置在所述平衡质量块的相反侧,
其中所述第三平衡质量块支撑装置在第三支撑位置处接合所述框架,并且
其中所述第四平衡质量块支撑装置在第四支撑位置处接合所述框架,并且
其中所述补偿器包括第三补偿器致动器和第四补偿器致动器,所述第三补偿器致动器被配置为在所述第三支撑位置处将第三补偿力施加到所述框架上,所述第四补偿器致动器被配置为在所述第四支撑位置处将第四补偿力施加到所述框架上,并且
其中所述第三补偿器致动器和所述第四补偿器致动器被配置为协作以在第二旋转方向上补偿所述平衡质量块转矩。
4.根据前述权利要求中任一项所述的定位系统,
其中所述转矩补偿器包括适于移动可移动补偿器质量块的线性马达。
5.根据权利要求4所述的定位系统,
其中所述转矩补偿器还包括质量块位置检测器,所述质量块位置检测器被配置为确定所述转矩补偿器的所述可移动补偿器质量块的位置。
6.根据前述权利要求中任一项所述的定位系统,
其中所述转矩补偿器还包括控制器,所述控制器被配置为生成或接收补偿器控制信号并基于所述补偿器控制信号产生补偿力,所述补偿器控制信号基于所述可移动体的相对于所述框架的位置和/或加速度。
7.根据权利要求6所述的定位系统,
其中所述转矩补偿器还包括加速度传感器,所述加速度传感器被配置为测量所述可移动体在第一方向上的加速度,并基于所述框架的所测量的加速度来生成加速度信号,并且
其中所述控制器被配置为接收所述加速度信号并将所述加速度信号用作用于生成所述补偿器控制信号的输入。
8.根据权利要求6或7所述的定位系统,
其中所述转矩补偿器的所述控制器包括数据存储装置,所述数据存储装置包含与所述可移动体的期望位置和/或加速度有关的数据,其中所述补偿器控制信号至少部分地基于所述数据。
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