[发明专利]定位装置、光刻设备、补偿平衡质量块转矩的方法和器件制造方法

说明书

本发明涉及一种定位系统，包括：第一致动器，在可移动体上施加致动力，所述第一致动器耦接至平衡质量块，所述平衡质量块被配置为吸收所述致动力所产生的反作用力，所述致动力提供所述可移动体的加速度，所述反作用力提供所述平衡质量块的加速度，其中，由所述可移动体的加速度产生的力与由所述平衡质量块的加速度产生的力一起产生平衡质量块转矩；平衡质量块支撑件，将所述平衡质量块支撑到框架上，所述平衡质量块支撑件在支撑位置处接合所述框架；和转矩补偿器；其中所述转矩补偿器施加补偿力以补偿所述平衡质量块转矩，和其中所述转矩补偿器在所述支撑位置处将所述补偿力施加到所述框架上。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2018年1月4日提交的欧洲申请18150247.7的优先权，该欧洲申请的全部内容以引用的方式并入本文中。

技术领域

本发明涉及一种定位装置、光刻设备、补偿平衡质量块转矩的方法及器件的制造方法。

背景技术

光刻设备是一种将所期望的图案施加到衬底上(通常在衬底的目标部分上)的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可替代地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成待形成于集成电路的单个层上的电路图案。可以将该图案转印到衬底(例如硅晶片)上的目标部分(例如包括管芯的一部分、一个或更多个管芯)上。通常，典型地经由将图案成像到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上进行图案的转印。通常，单个衬底将包含被连续形成图案的相邻目标部分的网络。常规的光刻设备包括：所谓的步进器，其中通过将整个图案一次性地曝光到目标部分上来辐照每个目标部分；和包括所谓的扫描器，其中通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向同步扫描所述衬底来辐照每个目标部分。还可以通过将图案压印到衬底上而将图案从图案形成装置转印到衬底上。

在光刻设备中，一些部件必须被非常准确地定位，以便在衬底上获得期望的图案品质，例如在聚焦和位置方面。这些部件中的大多数直接或间接连接至光刻设备的基架。为了在衬底上获得期望的图案品质，期望基架非常稳定并且基架的变形保持为尽可能小。

将机械力施加到基架上的光刻设备的元件的一个示例是晶片平台的平衡质量块。在通常使用的设计中，晶片平台由平面马达致动，以提供晶片平台的加速度。由该致动产生的反作用力被平衡质量块吸收，该平衡质量块由于反作用力而沿相反方向被加速。平衡质量块通过平衡质量块支撑件连接到基架。

由于晶片平台的重心与平衡质量块的重心之间的距离，晶片平台的加速力和平衡质量块的加速力一起产生转矩，该转矩由平衡质量块支撑件传递到基架。

类似的情况也发生在光刻设备的不同部件处，例如，在掩模版平台或掩模版掩模单元上。

发明内容

期望提供一种定位装置，其减小由可移动体的加速力和与所述可移动体相关的平衡质量块的加速力的组合所导致的转矩对所述光刻设备的框架的影响。

根据本发明的实施例，提供了一种定位装置，该定位装置包括：

第一致动器，所述第一致动器被配置为在可移动体上施加致动力，所述第一致动器耦接至平衡质量块，所述平衡质量块被配置为吸收由所述第一致动器生成的所述致动力所产生的反作用力，所述致动力提供所述可移动体的加速度，所述反作用力提供所述平衡质量块在相反方向上的加速度，其中，由所述可移动体的加速度产生的力与由所述平衡质量块的加速度产生的力一起产生平衡质量块转矩；

平衡质量块支撑件，被配置为将所述平衡质量块支撑到框架上，所述平衡质量块支撑件在支撑位置处接合所述框架；和

转矩补偿器；

其中所述转矩补偿器被配置为施加补偿力以补偿所述平衡质量块转矩，和

其中所述转矩补偿器被配置为在所述支撑位置处将所述补偿力施加到所述框架上。