[发明专利]框架一体型掩模及框架一体型掩模的制造方法在审
申请号: | 201880086540.2 | 申请日: | 2018-12-26 |
公开(公告)号: | CN111656552A | 公开(公告)日: | 2020-09-11 |
发明(设计)人: | 李裕进 | 申请(专利权)人: | 悟勞茂材料公司 |
主分类号: | H01L51/56 | 分类号: | H01L51/56;H01L51/00;C23C14/04 |
代理公司: | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人: | 姜虎;陈英俊 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 框架 体型 制造 方法 | ||
本发明涉及一种框架一体型掩模及框架一体型掩模的制造方法。根据本发明的框架一体型掩模,其由多个掩模(100)与用于支撑掩模(100)的框架(200)一体形成,其特征在于,框架(200)具有:边缘框架部(210),其包括中空区域(R);以及掩模单元片材部(220),其具有多个掩模单元区域(CR)且连接于边缘框架部(210),各掩模(100)连接于掩模单元片材部(220)的上部。
技术领域
本发明涉及一种框架一体型掩模及框架一体型掩模的制造方法,更具体地,涉及一种能够将掩模与框架形成一体且准确地进行各掩模间的对齐(alignment)的框架一体型掩模及框架一体型掩模的制造方法。
背景技术
最近,在薄板制造中针对电铸(Electroforming)方法的研究正在持续地进行。电铸方法通过将阳极、阴极浸渍于电解液中,并施加电源而使金属薄板电沉积于阴极的表面上,因此是一种能够制造极薄板并有望量产的方法。
另一方面,作为在OLED工艺中形成像素的技术,主要使用FMM(Fine Metal Mask,精密金属掩模)方法,其通过将薄膜的金属掩模(阴影掩模,Shadow Mask)紧贴到基板上,从而将有机物蒸镀到所需位置上。
在现有的OLED制造工艺中,以棒状、板状等制造掩模后,将掩模焊接固定到OLED像素蒸镀框架上并使用。一个掩模可具有对应于一个显示器的多个单元。另外,为了制造大面积OLED,可将多个掩模固定到OLED像素蒸镀框架,然而,在固定到框架上的过程中,会通过拉伸使各掩模变得平坦。为了使掩模整体上变得平坦而调节拉伸力属于非常困难的作业。尤其为了一边使各单元都平坦化且一边对齐尺寸为数~数十μm的掩模图案,需要进行如下高难度作业:一边细微地调节施加于掩模各侧的拉伸力,一边实时地确认对齐状态。
尽管如此,将多个掩模固定到一个框架的过程中,存在掩模间和掩模单元间无法很好地对齐的问题。另外,在将掩模焊接固定到框架的过程中,由于掩模膜的厚度过薄且面积大,因此存在掩模因荷重而下垂或扭曲的问题。
对于超高画质的OLED而言,目前QHD画质为500-600PPI(pixel per inch,每英寸像素),像素的尺寸达到约30~50μm,而4K UHD、8K UHD高画质具有比其更高的~860PPI、~1600PPI等的分辨率。考虑到超高画质的OLED的像素尺寸,需要将各单元之间的对齐误差缩减为数μm左右,超出这一误差将导致产品的不良,所以收率可能极低。因此,需要开发能够防止掩模的下垂或者扭曲等变形且使对齐精确的技术以及将掩模固定到框架的技术等。
发明内容
所要解决的技术问题
本发明为了解决如上所述的现有技术中的各种问题而提出,其目的在于提供一种能够使掩模与框架形成一体型结构的框架一体型掩模及框架一体型掩模的制造方法。
此外,本发明的目的在于提供一种可防止掩模下垂或扭曲等变形且准确地进行对齐的框架一体型掩模及框架一体型掩模的制造方法。
此外,本发明的目的在于提供一种可明显缩短制造时间并显著提高收率的框架一体型掩模及框架一体型掩模的制造方法。
解决技术问题的方案
本发明的上述目的通过框架一体型掩模来实现,所述框架一体型掩模由多个掩模与用于支撑掩模的框架一体形成,其中,框架包括:边缘框架部,其包括中空区域;以及掩模单元片材部,其具有多个掩模单元区域并连接于边缘框架部,各掩模连接于掩模单元片材部的上部。
掩模单元片材部沿着第一方向和垂直于第一方向的第二方向中至少一个方向可具有多个掩模单元区域。
掩模单元片材部可包括:边缘片材部;以及至少一个第一栅格片材部,其在第一方向上延伸形成且两端连接于边缘片材部。
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