[发明专利]等离子体处理系统中的调制电源的改进应用有效
申请号: | 201880086789.3 | 申请日: | 2018-11-16 |
公开(公告)号: | CN111788654B | 公开(公告)日: | 2023-04-14 |
发明(设计)人: | G·范齐尔;K·费尔贝恩;D·肖 | 申请(专利权)人: | 先进工程解决方案全球控股私人有限公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 刘炳胜 |
地址: | 新加坡*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 等离子体 处理 系统 中的 调制 电源 改进 应用 | ||
1.一种等离子体处理系统,包括:
调制等离子体性质的至少一个调制电源,其中,所述等离子体性质的所述调制具有重复周期T;
同步模块,所述同步模块被配置为向连接到所述等离子体处理系统的至少一件设备发送具有T的整数倍的同步信号重复周期的同步信号;以及
波形通信模块,所述波形通信模块被配置为向连接到所述等离子体处理系统的所述至少一件设备传送具有所述重复周期T的表征波形的特性,以能够使连接到所述等离子体处理系统的多件设备同步,其中,具有所述重复周期T的所述表征波形包含关于所述等离子体的所述调制的信息或关于连接到所述等离子体处理系统的一件设备的期望的波形的信息中的至少一个。
2.根据权利要求1所述的等离子体处理系统,其中,T是调制所述等离子体处理系统的所述等离子体性质的所有各件设备的波形以周期T呈周期性的最短时间长度。
3.根据权利要求1所述的等离子体处理系统,其中,所述调制电源被配置为通过调制影响所述等离子体的电磁场来调制所述等离子体性质。
4.根据权利要求1所述的等离子体处理系统,其中,所述调制电源是远程等离子体源。
5.根据权利要求1所述的等离子体处理系统,其中,所述调制电源被配置为通过调制所述等离子体处理系统中的气体的性质来调制所述等离子体性质。
6.根据权利要求1所述的等离子体处理系统,其中,所述调制电源被配置为使所述等离子体中的工件的表面电势在两个或更多不同的电平之间交替。
7.根据权利要求1所述的等离子体处理系统,其中,具有重复周期T的所述波形的所述特性包括由所述调制电源生成的输出波形的特性。
8.根据权利要求1所述的等离子体处理系统,其中,具有重复周期T的所述波形的所述特性包括所述等离子体性质的特性。
9.根据权利要求1所述的等离子体处理系统,其中,具有重复周期T的所述波形的所述特性包括所述等离子体中的工件的表面电势的特性。
10.根据权利要求1所述的等离子体处理系统,其中,具有重复周期T的所述波形的所述特性包括连接到所述等离子体处理系统的所述至少一件设备的输出的期望的特性。
11.根据权利要求1所述的等离子体处理系统,其中,所述至少一件设备是发生器。
12.根据权利要求11所述的等离子体处理系统,其中,所述发生器使所述发生器的输出的性质与具有重复周期T的所述表征波形同步。
13.根据权利要求12所述的等离子体处理系统,其中,所述同步包括相对于具有重复周期T的所述表征波形的改变,使所述发生器的所述输出的性质的改变提前或推迟。
14.根据权利要求12所述的等离子体处理系统,其中,所述输出的所述性质是电压、电流、功率、频率或发生器源阻抗中的至少一个。
15.根据权利要求11所述的等离子体处理系统,其中,所述发生器是RF发生器或DC发生器之一。
16.根据权利要求15所述的等离子体处理系统,其中,所述发生器能够从所述等离子体处理系统吸收功率。
17.根据权利要求16所述的等离子体处理系统,其中,所述发生器是能够仅从所述等离子体处理系统吸收功率的负载。
18.根据权利要求1所述的等离子体处理系统,其中,所述至少一件设备被配置为测量所述等离子体处理系统的性质。
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