[发明专利]等离子体处理系统中的调制电源的改进应用

说明书

本发明公开了等离子体处理系统和方法。该系统可以包括调制等离子体性质的至少一个调制电源，其中等离子体性质的调制具有重复周期T。同步模块被配置为向连接到等离子体处理系统的至少一件设备发送具有T的整数倍的同步信号重复周期的同步信号。波形通信模块向连接到等离子体处理系统的至少一件设备传送表征波形的特性以能够使连接到等离子体处理系统的多件设备同步。表征波形可以包含关于等离子体调制的信息或关于连接到等离子体处理系统的一件设备的期望的波形的信息。

依据35U.S.C.§119要求优先权

本专利申请要求于2017年11月17日提交的，名称为“IMPROVED APPLICATION OFAN EV SOURCE IN PLASMA PROCESSING EQUIPMENT”并且转让给其受让人的临时申请No.62/588,255的优先权，并且据此通过引用将其明确并入本文。

技术领域

本公开总体上涉及等离子体处理。具体而言，但并非作为限制地，本公开涉及耦合到等离子体处理系统的设备的互操作。

背景技术

用于蚀刻和沉积的等离子体处理系统已经被利用了数十年，但处理技术和设备技术的进步不断创建了越来越复杂的系统。同时，用工件创建的结构的不断减小的尺寸需要对等离子体处理设备的越来越精确的控制和互操作。当前的控制方法和相关联的系统不能解决与当今和将来的复杂系统相关联的几个问题；因此，需要对不相干然而彼此相关的等离子体处理设备的新的、改进的控制。

发明内容

根据一个方面，一种等离子体处理系统包括调制等离子体性质的至少一个调制电源，其中，等离子体性质的调制具有重复周期T。该等离子体处理系统包括同步模块，该同步模块被配置为向连接到等离子体处理系统的至少一件设备发送具有T的整数倍的同步信号重复周期的同步信号。该等离子体处理系统还包括波形通信模块，该波形通信模块被配置为向连接到等离子体系统的至少一件设备传送具有重复周期T的表征波形的特性，以能够使连接到等离子体处理系统的多件设备同步，其中，具有重复周期T的表征波形包含关于等离子体的调制的信息或关于连接到等离子体处理系统的一件设备的期望的波形的信息中的至少一个。

另一个方面可以被表征为一种用于等离子体处理系统的控制方法。该方法包括用调制电源调制等离子体性质，其中，等离子体性质的调制具有重复周期T。该方法还包括将波形表征为具有重复周期T、包含关于等离子体的调制的信息或关于连接到等离子体处理系统的一件设备的期望的波形的信息中的至少一个，以产生波形数据集。向连接到等离子体系统的至少一件设备发送波形数据集，并且将具有T的整数倍的同步信号重复周期的同步信号发送到连接到等离子体系统的至少一件设备。

又一个方面可以被表征为一种等离子体处理控制系统，其包括波形表征模块，该波形表征模块被配置为针对连接到等离子体系统的一件设备的输出波形生成波形数据集。包括波形重复模块以确定用于连接到等离子体系统的一件设备的重复周期T，并且波形通信模块被配置为向连接到等离子体系统的该件设备或另一件设备中的至少一个传送波形数据集。该等离子体处理系统还包括波形通信模块和同步模块。波形通信模块被配置为向连接到等离子体系统的该件设备或另一件设备中的至少一个传送波形数据集，并且该同步模块被配置为向连接到等离子体系统的一件设备发送具有T的整数倍的同步脉冲重复周期的同步脉冲。

附图说明

图1描绘了被设计为实现对等离子体性质的控制的等离子体处理系统的实施例。

图2描绘了被设计为使用远程等离子体源而不是一个或多个源发生器实现对等离子体性质的控制的等离子体处理系统的另一个实施例。

图3描绘了被设计为使用远程等离子体源和集成偏置电源功率递送系统实现对等离子体性质的控制的等离子体处理系统的又一个实施例。

图4描绘了包括偏置电源的等离子体处理系统。

图5描绘了结合了多个偏置电源的等离子体处理系统的另一个实施方式。