[发明专利]有机EL显示装置及其制造方法

权利要求书

1.一种有机EL显示装置，其特征在于，包括：

基板，其具有形成包含薄膜晶体管的驱动电路的表面；

平坦化膜，其通过覆盖所述驱动电路使所述基板的所述表面平坦化；

有机发光元件，其具有：第一电极，其形成在所述平坦化膜的表面上，并与所述驱动电路连接；有机发光层，其形成在所述第一电极之上；以及第二电极，其形成在所述有机发光层之上，

所述平坦化膜包含层叠在所述驱动电路之上的第一无机绝缘膜以及有机绝缘膜，

所述有机绝缘膜的表面形成为算术平面粗糙度Ra在50nm以下。

2.权利要求1所述的有机EL显示装置，其特征在于，

所述有机绝缘膜是丙烯酸树脂或聚酰亚胺树脂。

3.权利要求1或2所述的有机EL显示装置，其特征在于，

所述有机绝缘膜是非感光性树脂。

4.权利要求1至3中的任一项所述的有机EL显示装置，其特征在于，

所述平坦化膜通过在所述有机绝缘膜之上形成第二无机绝缘膜而为三层结构。

5.权利要求4所述的有机EL显示装置，其特征在于，

所述接触孔统一形成在所述三层结构中。

6.权利要求1至5中的任一项所述的有机EL显示装置，其特征在于，

所述有机发光元件是在所述有机发光层的投影区域内未形成所述薄膜晶体管而从所述基板侧提取光的底部发射型发光元件、或是在所述有机发光层的投影区域内也形成有所述薄膜晶体管且从所述第二电极提取光的顶部发射型发光元件。

7.一种有机EL显示装置的制造方法，其特征在于，包括如下工序：

在基板之上形成包含薄膜晶体管的驱动电路的工序；

在所述驱动电路的表面上形成第一无机绝缘膜以及有机绝缘膜的工序；

对所述有机绝缘膜的表面进行CMP抛光的工序；

在所述有机绝缘膜以及所述第一无机绝缘膜中形成到达所述TFT的接触孔的工序；

在所述接触孔的内部埋入金属，并且在规定的区域内形成第一电极的工序；

在所述第一电极之上形成有机发光层的工序；以及

在所述有机发光层之上形成第二电极的工序。

8.根据权利要求7所述的制造方法，其特征在于，

在所述有机绝缘膜之上形成第二无机绝缘膜，并且统一在所述第二无机绝缘膜、所述有机绝缘膜以及所述第一绝缘膜的三层中形成所述接触孔。

9.根据权利要求7或8所述的制造方法，其特征在于，

通过将中性的氧化铈系抛光材料、或气相法二氧化硅系料浆与水和酒精一同进行所述平坦化的工序，从而将表面平坦度抛光为算术平均粗糙度Ra在20nm以上且50nm以下。

10.根据权利要求7至9中的任一项所述的制造方法，其特征在于，

通过干法蚀刻进行所述接触孔的形成。