[发明专利]光刻设备、操作方法和器件制造方法

权利要求书

1.一种光刻设备，所述光刻设备包括：

-致动系统，所述致动系统用于定位物体；

-控制单元，所述控制单元用于控制所述致动系统；以及

-冷却系统，所述冷却系统用于冷却所述致动系统，

其中所述致动系统包括线圈组件，所述线圈组件包括作为产生力的构件的一个或更多个线圈，

其中所述冷却系统包括与所述线圈组件相互作用以用于冷却所述线圈组件的冷却元件，

并且其中所述控制单元被配置成控制所述一个或更多个线圈的温度，以将循环应力的量值保持在预定值以下。

2.根据权利要求1所述的光刻设备，其中所述控制单元被配置成在定位所述物体期间将所述线圈组件的所述一个或更多个线圈与所述冷却元件之间的温度差保持在预定范围内预定时间量，以便将循环应力的所述量值保持在预定值以下。

3.根据权利要求1所述的光刻设备，其中所述控制单元被配置成在定位所述物体期间将所述线圈组件的所述一个或更多个线圈的温度保持在预定范围内达预定时间量，以便将循环应力的所述量值保持在预定值以下。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的光刻设备，其中所述线圈组件包括分开的加热元件以加热所述线圈组件的所述一个或更多个线圈。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的光刻设备，其中所述控制单元被配置成将产生力的电流提供至所述一个或更多个线圈，目的在于定位所述物体，并且除了所述产生力的电流外也提供产生热的电流，目的在于将额外的热施加至所述一个或更多个线圈。

6.根据权利要求5所述的光刻设备，其中所述控制单元被配置成将所述产生力的电流和所述产生热的电流的总和的均方根值保持在预定范围内，优选为恒定的。

7.根据权利要求5或6所述的光刻设备，其中所述线圈组件包括用于测量所述线圈组件的所述一个或更多个线圈的温度的温度传感器，并且其中所述控制单元被配置成依赖于所述一个或更多个线圈的被测量到的温度来确定所述产生热的电流。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的光刻设备，其中所述线圈组件包括被布置在所述一个或更多个线圈与所述冷却元件之间的密封材料。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的光刻设备，还包括：

-照射系统，所述照射系统被配置成调节辐射束；

-支撑件，所述支撑件被构造成支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够在所述辐射束的横截面中赋予所述辐射束图案以形成图案化的辐射束；

-衬底台，所述衬底台构造成保持衬底；以及

-投影系统，所述投影系统被配置成将所述图案化的辐射束投影至所述衬底的目标部分上，

其中所述致动系统被配置成定位所述支撑件或所述衬底台。

10.一种操作光刻设备的方法，所述光刻设备包括：致动系统，所述致动系统用于定位物体；和冷却系统，所述冷却系统用于冷却所述致动系统，其中所述致动系统包括线圈组件，所述线圈组件包括作为产生力的构件的一个或更多个线圈，其中所述冷却系统包括与所述线圈组件相互作用以用于冷却所述线圈组件的冷却元件，

并且其中所述方法包括以下步骤：

a)将产生力的电流提供至所述线圈组件的所述一个或更多个线圈以定位所述物体；

b)在定位所述物体期间将所述线圈组件的所述一个或更多个线圈与所述冷却元件之间的温度差、或所述一个或更多个线圈的温度保持在预定范围内预定时间量。

11.根据权利要求10所述的方法，其中步骤b)包括以下子步骤：

b1)确定由所述产生力的电流产生的热量；

b2)在由所述产生力的电流产生的所述热量不足时将额外的热增加至所述线圈组件的所述一个或更多个线圈。