[发明专利]光刻设备、操作方法和器件制造方法

说明书

本发明涉及一种光刻设备，所述光刻设备包括：致动系统，所述致动系统被用于定位物体；控制单元(CU)，所述控制单元用于控制所述致动系统；以及冷却系统，所述冷却系统用于冷却所述致动系统，其中所述致动系统包括线圈组件(CA)，所述线圈组件包括一个或更多个线圈(CO)作为产生力的构件，其中所述冷却系统包括与所述线圈组件相互作用以用于冷却所述线圈组件的冷却元件(CE)，并且其中所述控制单元被配置成控制所述一个或更多个线圈的温度，以将循环应力的量值保持在预定值以下。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2018年1月19日递交的欧洲申请18152449.7的优先权，并且所述欧洲申请的全部内容通过引用并入本文中。

技术领域

本发明涉及一种光刻设备、一种用于操作光刻设备的方法和一种使用光刻设备的器件制造方法。

背景技术

光刻设备是将期望的图案施加至衬底上，通常施加至衬底的目标部分上的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(IC)制造中。在这种情况下，替代地被称作掩模或掩模版的图案形成装置可以用于产生将要形成在IC的单层上的电路图案。可以将这种图案转印至衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括管芯的部分、一个管芯或若干管芯)上。典型地经由成像至提供在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上来进行图案的转印。通常，单个衬底将包含被连续地图案化的相邻目标部分的网络。常规的光刻设备包括：所谓的步进器，其中通过一次性将整个图案曝光至目标部分上来辐照每个目标部分；和所谓的扫描仪，其中在通过在给定方向(“扫描”方向)上由辐射束扫描图案的同时平行或反向平行于这种方向来同步地扫描衬底从而辐照每个目标部分。也可能通过将图案压印至衬底上来将图案从图案形成装置转印至衬底。

在光刻设备中，可以提供多个致动系统以将诸如平台、透镜等的部件定位在光刻设备中。线圈通常被用于致动系统中作为产生力的构件。线圈是电流承载构件且因此也产生热。在光刻设备的使用期限期间，线圈以及因此围绕线圈的材料可以经历许多热循环，并且这些热循环具有可能损害致动系统的部分的相应的热诱发应力和应变。尤其在致动系统的部分的疲劳方面出现大的变化或是未知的情况下，使用大的安全裕度和保守设计，和/或致动系统的平均负载必须相对较低以实现期望的使用期限。

发明内容

期望提供一种光刻设备，其中由致动系统中的多个热循环引起的效应被减小。

根据本发明的实施例，提供一种光刻设备，包括：

-致动系统，所述致动系统用于定位物体；

-控制单元，所述控制单元用于控制所述致动系统；以及

-冷却系统，所述冷却系统用于冷却所述致动系统，

其中所述致动系统包括线圈组件，所述线圈组件包括一个或更多个线圈，作为产生力的构件，

其中所述冷却系统包括与所述线圈组件相互作用以用于冷却所述线圈组件的冷却元件，

并且其中所述控制单元被配置成控制所述一个或更多个线圈的温度，以将循环应力的量值保持在预定值以下。

根据本发明的另一实施例，提供一种光刻设备，包括：

-致动系统，所述致动系统用于定位物体；

-控制单元，是控制单元用于控制所述致动系统；以及

-冷却系统，所述冷却系统用于冷却所述致动系统，

其中所述致动系统包括线圈组件，所述线圈组件包括一个或更多个线圈，作为产生力的构件，

其中所述冷却系统包括与所述线圈组件相互作用以用于冷却所述线圈组件的冷却元件，