[发明专利]蒸镀掩膜、蒸镀掩膜的制造方法及显示设备的制造方法

权利要求书

1.一种在蒸镀时被配置在蒸镀源和被蒸镀基板之间的蒸镀掩膜，其特征在于，具有：

掩膜框架，其为具有掩膜开口的框状，并具有第一面和第二面作为两主面，其中，在所述蒸镀时，所述第一面靠近所述被蒸镀基板侧，所述第二面为与所述第一面的相反侧且靠近所述蒸镀源侧；

掩膜片，其并排形成有多个与所述被蒸镀基板的多个发光颜色的像素图案中的、任意发光颜色的像素图案相对应的蒸镀孔；以及

对准片，其形成有对准标记，所述对准标记是将所述掩膜片安装于所述掩膜框架时的定位基准，

所述掩膜片和所述对准片并排配置在所述掩膜框架的所述第一面上，

所述掩膜片设置在所述掩膜框架的所述第一面的顶表面，

所述对准片设置在所述掩膜框架的所述第一面的、从所述顶表面凹陷的凹部。

2.如权利要求1所述的蒸镀掩膜，其特征在于，

在所述掩膜框架的第一面上以相互交叉的方式还安装有多个盖片和多个牵引片，所述多个盖片和所述多个牵引片分别设置在所述掩膜框架的所述第一面的、从所述顶表面凹陷的槽内，所述掩膜框架中的、形成有槽的区域的厚度，比形成有所述凹部的区域的厚度更薄，其中，所述槽上设置有所述多个盖片及所述多个牵引片，所述凹部上设置有所述对准片。

3.如权利要求2所述的蒸镀掩膜，其特征在于，

在所述掩膜框架中的、形成有设置所述盖片的所述槽的区域的厚度和形成有设置所述牵引片的所述槽的区域的厚度中，形成有设有如下所述的片材的槽的区域的厚度更薄，即所述片材是配置于所述盖片及所述牵引片中的、远离所述掩膜片的一侧。

4.一种蒸镀掩膜的制造方法，所述蒸镀掩膜在蒸镀时被配置在蒸镀源和被蒸镀基板之间，其特征在于，所述制造方法具有：

对准片安装工序，在作为两主面具有第一面和第二面的掩膜框架中的、从所述第一面的顶表面凹陷的凹部上安装设置有对准标记的对准片，其中，所述掩膜框架为具有掩膜开口的框状，在蒸镀时，所述第一面靠近所述被蒸镀基板侧，所述第二面为与所述第一面相反侧且靠近所述蒸镀源侧；以及

掩膜片安装工序，将安装在所述掩膜框架上的所述对准片的所述对准标记作为基准，以与所述对准片并排的方式将掩膜片安装至所述掩膜框架中的、所述第一面的顶表面上，其中，所述掩膜片并排形成有多个与所述被蒸镀基板的多个发光颜色的像素图案中的、任意发光颜色的像素图案相对应的蒸镀孔。

5.一种显示设备的制造方法，其包括蒸镀工序，其中，按照每个所述发光颜色，使用多个如权利要求1至3中任一项所述的蒸镀掩膜来对所述被蒸镀基板的各像素蒸镀蒸镀层，所述制造方法的特征在于，

所述多个蒸镀掩膜中的第一蒸镀掩膜的所述掩膜片上并排形成有与所述被蒸镀基板的多个发光颜色的像素图案中分辨率最高的像素图案相对应的多个蒸镀孔，

所述第一蒸镀掩膜的所述掩膜片的厚度比所述对准片的厚度薄，所述蒸镀工序还可以包含第一蒸镀工序，所述第一蒸镀工序中，使用所述第一蒸镀掩膜来蒸镀与所述被蒸镀基板的多个发光颜色的像素图案中分辨率最高的像素图案相对应的所述蒸镀层。

6.如权利要求5所述的显示设备的制造方法，其特征在于，

在所述第一蒸镀掩膜中，所述掩膜框架的、从所述第二面到所述掩膜片的表面为止的厚度与所述掩膜框架的、从所述第二面到所述对准片的表面为止的厚度相同。

7.如权利要求5所述的显示设备的制造方法，其特征在于，

所述被蒸镀基板的多个发光颜色的像素图案中分辨率最高的像素图案是发光颜色为绿色的像素图案。

8.如权利要求5所述的显示设备的制造方法，其特征在于，

所述多个蒸镀掩膜中的第二蒸镀掩膜的所述掩膜片上并排形成有与其他像素图案相对应的多个蒸镀孔，其中，所述其他像素图案不是所述被蒸镀基板的多个发光颜色的像素图案中分辨率最高的像素图案，

所述掩膜片的厚度比所述对准片的厚度厚，所述蒸镀工序还包含第二蒸镀工序，所述第二蒸镀工序中，使用所述第二蒸镀掩膜来蒸镀与所述被蒸镀基板的多个发光颜色的像素图案中的所述其他像素图案相对应的所述蒸镀层。