[发明专利]蒸镀掩膜、蒸镀掩膜的制造方法及显示设备的制造方法

说明书

蒸镀掩膜(10)中，掩膜片(15)和对准片(14)被配置在掩膜框架(11)的第一面(11za)上，掩膜片(15)被设置在掩膜框架(11)的第一面(11za)的顶表面(11g)上，对准片(14)被设置在掩膜框架(11)的第一面(11za)的、从顶表面(11g)上凹陷的凹部(11i)上。

技术领域

本发明涉及蒸镀掩膜、蒸镀掩膜的制造方法及显示设备的制造方法。

背景技术

如专利文献1所记载，有机EL显示装置中，在各像素中图案形成发光层的情况下，使用蒸镀掩膜。蒸镀掩膜是片状的掩模片以拉伸的状态固定于坚固的框状的框架即掩膜框架上，该片状的掩膜片上图案形成有用于蒸镀蒸镀层的蒸镀孔。

此外，掩膜片上形成有蒸镀孔，因此，要求掩膜框架的安装位置的精度。

因此，首先对掩膜框架安装具有对准标记的对准片，将该对准标记作为定位基准，将掩膜片安装在掩膜框架上。

现有技术文献

专利文献

日本公开专利公报“特开2010-135269号”

发明内容

发明所要解决的技术问题

近年来，显示领域的像素的清晰度变得越来越高，对蒸镀层的成膜精度的要求很高。因此，要求掩膜片的薄膜化。

这里，掩膜片和对准片被设置在掩膜框架的同一面上。

因此，掩膜片和对准片中，如果只对掩膜片进行薄膜化，则被蒸镀基板和对准片接触时，被蒸镀基板和对准片之间产生缝隙，不能高精度地形成图案蒸镀层。

但是，随着掩膜盘的薄膜化，相同地，如果将对准片也薄膜化，则对准片上容易产生皱折、撕裂等的缺陷。如上所述，如果将对准片薄膜化，则对蒸镀工序时的操作不利，并容易产生缺陷。

本发明鉴于上述问题点而做出，其目的在于提供，即使将掩膜片薄膜化，也难以在对准片上产生缺陷的蒸镀掩膜、蒸镀掩膜的制造方法及显示设备的制造方法。

解决问题的方案

为了解决上述问题，本发明的一方面涉及的蒸镀掩膜是在蒸镀时被配置在蒸镀源和被蒸镀基板之间的蒸镀掩膜，其特征在于，具有：掩膜框架，其为具有掩膜开口的框状，并具有第一面和第二面作为两主面，其中，在蒸镀时，所述第一面靠近所述被蒸镀基板侧，所述第二面为该第一面的相反侧且靠近所述蒸镀源；掩膜片，其并排形成有多个与所述被蒸镀基板的多个发光颜色的像素图案中的、任意发光颜色的像素图案相对应的蒸镀孔；对准片，其形成有对准标记，该对准标记是将所述掩膜片安装于所述掩膜框架时的定位基准，所述掩膜片和所述对准片并排配置在所述掩膜框架的所述第一面上，所述掩膜片设置在所述掩膜框架的所述第一面的顶表面，所述对准片设置在所述掩膜框架的所述第一面的、从所述顶表面凹陷的凹部。

为了解决上述问题，本发明的一方面涉及的蒸镀掩膜的制造方法是在蒸镀时被配置在蒸镀源和被蒸镀基板之间的蒸镀掩膜的制造方法，其特征在于，具有：对准片安装工序，在作为两主面具有第一面和第二面的掩膜框架中的、从所述第一面的顶表面凹陷的凹部上安装设置有对准标记的对准片，其中，所述掩膜框架为具有掩膜开口的框状，在蒸镀时，所述第一面靠近所述被蒸镀基板侧，所述第二面为该第一面的相反侧且靠近所述蒸镀源；掩膜片安装工序，将安装在所述掩膜框架上的所述对准片的所述对准标记作为基准，以与所述对准片并排的方式将掩膜片安装至所述掩膜框架中的、所述第一面的顶表面上，其中，所述掩膜片并排形成有多个与所述被蒸镀基板的多个发光颜色的像素图案中的、任意发光颜色的像素图案相对应的蒸镀孔。

发明效果

根据本发明的一方面，获得如下效果：即使将掩膜片薄膜化，也难以在对准片上产生缺陷。

附图说明