[发明专利]基于计算量测的采样方案

权利要求书

1.一种用于生成针对图案化过程的量测采样方案的方法，所述方法包括：

获得与用于衬底和/或图案化过程的设备的第一采样方案对应的数据、以及与所获得的数据对应的参数图；

由硬件计算机系统识别所述参数图的贡献因素；

由所述硬件计算机系统从所述参数图中去除所述贡献因素的贡献，以产生残差图；和

通过建模和/或模拟，基于所述残差图生成第二量测采样方案，其中，所述第二量测采样方案被配置为在后续衬底上分布采样点，以提高量测采样密度。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，生成所述第二采样方案包括：通过建模和/或模拟，在所述后续衬底上分布采样点，以使得所述参数的准确度程度小于或等于所述图案化过程的参数的准确度阈值。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，生成所述第二采样方案包括：基于所识别出的贡献因素，在所述后续衬底的边缘的一部分处限定量测捕获部位。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，生成所述第二采样方案包括：基于所识别的贡献因素，在所述后续衬底的中心处和/或周围限定量测捕获部位。

5.根据权利要求2所述的方法，其中，生成所述第二采样方案包括：在所述量测捕获部位内相比于所述后续衬底的其余部位分配相对大量的采样点。

6.根据权利要求1所述的方法，其中，所述贡献因素是主导贡献因素，所述主导贡献因素是对所述参数图中的参数具有相对高贡献的所述图案化过程的任何设备或设备的组合。

7.根据权利要求1所述的方法，其中，所述贡献因素的识别包括将统计分类技术应用于所述参数图。

8.根据权利要求7所述的方法，其中所述统计分类技术是主成分分析。

9.根据权利要求1所述的方法，其中所述贡献因素包括出现在所述衬底的空间频谱中的一个或更多个空间频率。

10.根据权利要求9所述的方法，其中，所述去除步骤包括：去除所述一个或更多个空间频率中的被识别为较不主导的至少一个空间频率。

11.根据权利要求9所述的方法，其中，所述方法包括以下步骤：

确定在不同对的空间频谱之间的相关性频谱，每对空间频谱涉及不同对的衬底或衬底的场；

确定每个空间频率的相关性频谱的量值的分布；

根据每个空间频率的相关性频谱的量值的分布来确定相关性指标；

使用所述相关性指标来生成第二量测方案。

12.根据权利要求1所述的方法，还包括：

由硬件计算机系统基于所述残差图确定是否达到所述参数的准确度阈值；和

响应于未达到所述准确度程度，基于所述残差图以迭代方式生成不同的采样方案，直到达到或突破基准准确度。

13.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第二采样方案在所限定的量测捕获部位处相对于所述衬底内的其他部位限定了相对较高的量测采样密度。

14.根据权利要求1所述的方法，其中所述图案化过程的参数是重叠、临界尺寸、聚焦、和/或边缘放置误差。

15.一种计算机程序产品，包括非暂时性计算机可读介质，所述非暂时性计算机可读介质中记录有指令，所述指令在由计算机执行时实施根据权利要求1所述的方法。