[发明专利]质谱分析装置以及质谱分析装置的质量校正方法

权利要求书

1.一种质谱分析装置的质量校正方法，所述质谱分析装置具备离子源，所述离子源向试样中添加基质或者使基质附着于试样以使该试样中的成分离子化，所述质量校正方法的特征在于，执行以下步骤：

a)峰检测步骤，在通过用所述质谱分析装置分析目标试样而获取到的质谱上，检测源自在该分析时使用的基质的一个或多个峰；

b)质量校正信息获取步骤，基于在所述峰检测步骤中检测到的源自基质的一个或多个峰的实际的质荷比值与对应于该峰的离子的理论上的质荷比值之差，来求出质量校正信息；以及

c)质量校正执行步骤，利用在所述质量校正信息获取步骤中得到的质量校正信息，来校正与在所述质谱中观测到的峰有关的质荷比。

2.一种质谱分析装置，具备离子源，所述离子源向试样中添加基质或者使基质附着于试样以使该试样中的成分离子化，所述质谱分析装置的特征在于，具备：

a)参照信息存储部，其事先保存有源自在由所述质谱分析装置进行分析时使用的基质的各种离子的理论上的质荷比的信息；

b)质量校正用基准峰检测部，其从所述参照信息存储部获取源自在用所述质谱分析装置分析目标试样时使用的基质的离子的信息，在通过该分析获取到的质谱上检测与源自所述基质的离子对应的一个或多个峰；

c)质量校正信息计算部，其基于由所述质量校正用基准峰检测部检测到的源自基质的一个或多个峰的实际的质荷比值与对应于该峰的离子的理论上的质荷比值之差，来求出质量校正信息；以及

d)质量校正执行部，其利用由所述质量校正信息计算部得到的质量校正信息，来校正与在所述质谱中观测到的峰有关的质荷比。

3.根据权利要求2所述的质谱分析装置，其特征在于，

所述基准质量校正用基准峰检测部针对源自基质的一种离子的峰的理论上的质荷比值设定规定的质荷比宽度的检测窗，在进入该检测窗的峰为多个的情况下，不选择与该离子对应的峰。

4.根据权利要求2所述的质谱分析装置，其特征在于，

所述基准质量校正用基准峰检测部包括峰单一性判定部，所述峰单一性判定部基于峰宽度来判定在被推断为与源自所述基质的离子对应的峰的峰中是否叠加有其它峰，在判定为叠加有其它峰的情况下，不选择与该离子对应的峰。

5.根据权利要求2所述的质谱分析装置，其特征在于，

所述基准质量校正用基准峰检测部包括峰单一性判定部，所述峰单一性判定部基于与根据构成峰的多个数据计算出的重心对应的质荷比值以及与该峰的顶点对应的质荷比值，来判定在被推断为与源自所述基质的离子对应的峰的峰中是否叠加有其它峰，在判定为叠加有其它峰的情况下，不选择与该离子对应的峰。

6.根据权利要求2所述的质谱分析装置，其特征在于，

还具备参照信息制作部，所述参照信息制作部基于通过用该质谱分析装置分析基质而获取到的质谱，来制作与实际检测到的源自该基质的各种离子的理论上的质荷比有关的信息，并保存到所述参照信息存储部中。

7.根据权利要求2所述的质谱分析装置，其特征在于，

通过针对试样上的二维的测定区域内的多个测定点分别实施质谱分析，能够进行成像质谱分析，

由所述质量校正用基准峰检测部、所述质量校正信息计算部以及所述质量校正执行部基于在测定区域内的各测定点处获取到的质谱，按每个测定点对在质谱中观测到的峰进行质量校正。