[发明专利]质谱分析装置以及质谱分析装置的质量校正方法

说明书

源自基质的峰信息获取部(31)基于对仅基质的试样进行分析得到的结果，来制作汇总了源自基质的各种离子及其理论上的m/z值的峰列表，并使该峰列表存储在源自基质的峰信息存储部(32)中。如果得到目标试样的实测质谱，则质量校正用基准峰检测部(33)利用与在分析中使用的基质对应的峰列表，来鉴定在实测质谱中出现的源自基质的离子峰。质量校正信息计算部(35)根据鉴定出的峰的实测的m/z值和理论上的m/z值来求出质量校正信息，质量校正处理部(37)利用质量校正信息对实测质谱上的源自目标化合物的峰的m/z值进行校正。由此，即使在不使用标准物质或者无法以足够的强度观测源自标准物质的离子的情况下，也能够进行准确的质量校正。

技术领域

本发明涉及一种质谱分析装置以及质谱分析装置的质量校正方法，更为详细地说，涉及一种搭载有离子源的质谱分析装置以及这样的质谱分析装置的质量校正方法，其中，所述离子源通过基质辅助激光解吸离子化(MALDI)法等向试样添加作为一种离子化辅助剂的基质或者使该基质附着于试样来进行离子化。

背景技术

在质谱分析装置中，由于各种原因，导致通过对某化合物实际测量而求出的质量与理论上的质量之间产生差异，也就是产生质量偏差。在飞行时间质谱分析装置(TOFMS)的情况下，用于向飞行空间导入离子的离子的引出电压的变动、由伴随温度变化的装置的膨胀或收缩引起的飞行距离的变化等是质量偏差的主要原因。另外，在搭载有MALDI离子源的TOFMS(MALDI-TOFMS)中，飞行距离也因载置有试样的样品板的倾斜或试样表面的凹凸而发生变化，从而引起质量偏差。另外，在使用MALDI-TOFMS进行试样上的二维的测定区域内的多个测定点处的质谱分析的成像质谱分析装置中，在测定区域内的每个测定点的位置处，这样的质量偏差是不同的。

作为校正上述质量偏差的质量校正方法，最普通的方法是利用了理论质量已知的标准物质的方法。即，向作为测定对象的试样中添加标准物质(或者理论质量已知的适当的化合物)，从通过对该试样进行质谱分析而得到的质谱中找出源自该标准物质的峰，求出校正量，以使得该峰的质荷比值与基于理论质量的质荷比值一致。然后，基于该校正量来校正在质谱上观测到的源自其它化合物的离子的质荷比值(参照专利文献1等)。

另外，在成像质谱分析装置中，如上所述那样存在质量偏差量或该偏差量的质荷比取决性根据试样上的测定位置不同而不同的情况，但还已知以下方法：不是对整个测定区域而是对测定区域内的每个更小的范围分别进行质量校正，由此使质量精度提高(参照专利文献2、3等)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2016-26302号公报

专利文献2：日本特开2015-146288号公报

专利文献3：日本特开2010-205460号公报

发明内容

发明要解决的问题

然而，如上所述，在利用了源自被添加到试样中的标准物质等特定化合物的峰的质量校正方法中，存在如下问题。

特别是在作为测定对象的试样是源自生物体的试样的情况下，如果向试样中大量地添加某种化合物，则其会影响该试样中的成分的离子化效率等，有时会妨碍准确的测定。因此，一般来说，向试样中添加的标准物质的量是少量的。另一方面，在通过搭载有MALDI离子源的质谱分析装置进行成像质谱分析时，向一个测定点(微小区域)照射的激光的直径受限，另外，为了避免损伤该测定点的周围的试样，激光的功率也被设定得比较低。因此，在一个测定点处生成的离子的量比较少。因此，有时无法以足够的SN比观测到源自标准物质的离子的峰，其中，所述标准物质是为了进行质量校正而被添加到试样中的物质。另外，由于所谓的离子抑制效应等，也存在实质上几乎无法观察到源自标准物质的离子的峰的情况。