[发明专利]用于生产多层压印母版的方法、多层压印母版及多层压印母版的用途在审
| 申请号： | 201880090964.6 | 申请日： | 2018-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN112219164A | 公开（公告）日： | 2021-01-12 |
| 发明（设计）人： | 约翰·马尔塔比 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 生产 多层 压印 母版 方法 用途 | ||
1.一种用于生产多层压印母版的方法，所述方法包括：
-提供基板(10)，所述基板具有主表面(10A)，所述主表面提供第一平面(11)，
-在所述基板(10)中产生第一组特征(21)，所述第一组特征(21)提供低于所述第一平面(11)的第二平面(12)，以及
-在所述基板(10)上产生第二组特征(22)，所述第二组特征(22)提供高于所述第一平面(11)的第三平面(13)。
2.根据权利要求1所述的方法，其中产生所述第一组特征(21)包括在所述基板(10)上提供具有图案的第一掩模(31)，及通过应用蚀刻工艺将所述图案转移至所述基板(10)中。
3.根据权利要求1或2所述的方法，其中产生所述第二组特征(22)包括使所述基板(10)涂布有光刻胶层(40)，及图案化所述光刻胶层(40)。
4.根据权利要求3所述的方法，图案化所述光刻胶层(40)包括将所述光刻胶层暴露于穿过第二掩模(32)的光。
5.根据权利要求4所述的方法，进一步包括将光刻胶显影剂施加于所述光刻胶层(40)的表面。
6.一种用于生产多层压印母版的方法，所述方法包括：
-提供基板(10)，
-使所述基板(10)涂布有第一光刻胶材料的第一层(51)，所述第一层具有第一主表面(51A)，所述第一主表面提供第一平面(11)，
-在第一光刻胶材料的所述第一层(51)中产生第一组特征(21)，所述第一组特征(21)提供低于所述第一平面(11)的第二平面(12)，
-在所述第一层的所述主表面上产生第二组特征(22)，所述第二组特征(22)提供高于所述第一平面(11)的第三平面(13)。
7.根据权利要求6所述的方法，其中产生所述第一组特征(21)包括在所述第一层之上提供第一掩模及图案化所述第一层。
8.根据权利要求7所述的方法，其中图案化所述第一层包括将所述第一层暴露于穿过所述第一掩模的光。
9.根据权利要求6至8的任一项所述的方法，其中产生所述第二组特征(22)包括使所述第一层(51)涂布有第二光刻胶材料的第二层(52)及图案化所述第二层，所述第二光刻胶材料具有相反于所述第一光刻胶材料的光敏度。
10.根据权利要求9所述的方法，其中图案化所述第二层包括将所述第二层(52)暴露于穿过第二掩模(32)的光。
11.根据权利要求10所述的方法，进一步包括将光刻胶显影剂施加于所述第二层的表面。
12.根据权利要求6至11的任一项所述的方法，其中所述第一光刻胶材料为正性光刻胶。
13.根据权利要求7至12的任一项所述的方法，其中所述第二光刻胶材料为负性光刻胶。
14.一种通过根据权利要求1至11的任一项所述的方法生产的多层压印母版(100)。
15.一种权利要求14的多层压印母版的用于生产压印印模的用途。
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