[发明专利]用于生产多层压印母版的方法、多层压印母版及多层压印母版的用途在审
申请号: | 201880090964.6 | 申请日: | 2018-03-26 |
公开(公告)号: | CN112219164A | 公开(公告)日: | 2021-01-12 |
发明(设计)人: | 约翰·马尔塔比 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国;赵静 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 生产 多层 压印 母版 方法 用途 | ||
描述一种用于生产多层压印母版的方法。所述方法包括:提供基板(10),所述基板具有主表面(10A),所述主表面提供第一平面(11);及在基板(10)中产生第一组特征(21)。第一组特征(21)提供低于第一平面(11)的第二平面(12)。此外,所述方法包括在基板(10)上产生第二组特征(22)。第二组特征(22)提供高于第一平面(11)的第三平面(13)。
技术领域
本公开内容的实施方式涉及生产三维图案的方法,特别是用于生产主模板(master template)的方法,所述主模板例如是用于制造压印印模(imprint stamp)的主模板。特别地,本公开内容的实施方式涉及生产多层三维图案的方法,所述多层三维图案用于提供多层压印母版(multilevel imprint master),所述多层压印母版可用于生产例如用于压印光刻的压印印模。
背景技术
薄膜的图案化是多种应用所需要的,这些应用例如是微电子装置、光电装置或光学装置的制造。光学光刻技术可用于图案化装置中的薄膜。然而,光学光刻技术可能为昂贵的且/或可能面临限制,特别是针对具有较大尺寸的基板。
特别是针对卷对卷处理来说,利用传统技术而不使用昂贵的光刻来制造小特征尺寸是有限制的。印刷技术例如被限制到例如10μm的特征尺寸,这个特征尺寸可能不够小。印刷技术例如是丝网印刷(screen print)、凹版印刷(gravure)、柔版印刷(flexographic)、喷墨(inkjet)等。此外,片材至片材(sheet-to-sheet)工艺可受益于压印光刻工艺。压印光刻可提供较便宜的工艺来图案化薄膜,以在装置中提供图案化结构。
为了在压印工艺中制造出图案化结构,一般使用具有将压印的结构的印模。针对压印印模的生产,使用主模板提供将压印的结构的负型(negative)。举例来说,为了将主模板的结构转移至压印印模,主模板可涂布有聚合物层。在聚合物层从主模板分离之后,聚合物层的表面包括负型主模板的结构的相反结构。结构化的聚合物层可接着被用来提供压印印模的压印结构。
关于制造压印印模存在数个技术挑战。特别地,生产多层母版且其中可跨许多深度确保母版结构特征的侧壁角(sidewall angle)和深度均匀性仍具有挑战性。此外,生产包含具有高深宽比(aspect ratios)及/或宽深度范围的特征(这种特征提供高结构准确性)的三维结构母版是制造例如用于压印光刻的高准确性印模的关键。
因此,鉴于上述,为了提供用于制造压印印模的改进的压印母版,对用于生产压印母版的改进的方法有持续的需求。
发明内容
鉴于上述,提供根据独立权利要求的一种用于生产多层压印母版的方法、一种多层压印母版、及多层压印母版的用于生产压印印模的的用途。其他方面、优点及特征由从属权利要求、说明书及附图而显而易见。
根据本公开内容的一方面,提供一种用于生产多层压印母版的方法。所述方法包括:提供基板,所述基板具有主表面,所述主表面提供第一平面(level);及在基板中产生第一组特征。所述第一组特征提供低于第一平面的第二平面。此外,所述方法包括在基板上产生第二组特征。所述第二组特征提供高于第一平面的第三平面。
根据本公开内容的另一方面,提供一种用于生产多层压印母版的方法。所述方法包括:提供基板;以及对基板涂布第一光刻胶材料的第一层。所述第一层具有提供第一平面的主表面。此外,所述方法包括在第一层中产生第一组特征。所述第一组特征提供低于第一平面的第二平面。另外,所述方法包括在第一层的主表面上产生第二组特征。第二组特征提供高于第一平面的第三平面。
根据本公开内容的另一方面,提供一种多层压印母版。所述多层压印母版通过根据本文描述的任何实施方式的方法生产。
根据本公开内容的另一方面,提供一种根据本文描述的任何实施方式的多层压印母版用于生产压印印模的用途。
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