[发明专利]显示设备及其制造方法有效
申请号: | 201880091626.4 | 申请日: | 2018-03-27 |
公开(公告)号: | CN111903185B | 公开(公告)日: | 2023-07-04 |
发明(设计)人: | 高桥纯平;越智久雄;妹尾亨;平濑刚;园田通;越智贵志;松井章宏 | 申请(专利权)人: | 夏普株式会社 |
主分类号: | H05B33/02 | 分类号: | H05B33/02;G09F9/00;G09F9/30;H10K50/844;H10K59/124;H10K71/00;H10K59/122;H05B33/04;H05B33/10;H05B33/22 |
代理公司: | 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 | 代理人: | 叶乙梅 |
地址: | 日本国大*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示 设备 及其 制造 方法 | ||
1.一种显示设备,其特征在于,具备:
电路基板,其在表面上设置有平坦化层;
多个发光元件,其设置在所述平坦化层上;
密封膜,其包含第一无机膜、在所述第一无机膜的上层的树脂膜、在所述树脂膜的上层的第二无机膜,并密封所述发光元件;
框状的第一堤,其包围所述平坦化层,内侧被所述树脂膜覆盖,
所述平坦化层具有第一边和与所述第一边正交的第二边,并且在所述平坦化层的边缘部全周具有凹凸部,在俯视观察时,所述凹凸部在所述第一边和所述第二边设置有大小不同的凹凸。
2.如权利要求1所述的显示设备,其特征在于,
所述凹凸部在所述第一边和所述第二边中,所述凹凸的间距及所述凹凸的深度不同,其中,所述凹凸的间距是指,俯视观察时的所述凹凸中相邻的凹部的中心之间的距离或相邻的凸部的中心之间的距离,所述凹凸的深度是指,俯视观察时的所述凹部的中心和所述凸部的中心在凹凸方向上的离开距离。
3.如权利要求1或2所述的显示设备,其特征在于,
俯视观察时,所述凹凸部具有“之”字形形状。
4.如权利要求1或2所述的显示设备,其特征在于,
俯视观察时,所述凹凸部具有弯曲形状。
5.如权利要求1或2所述的显示设备,其特征在于,
在框状的所述第一堤中,在与所述第一边平行的边上设置有凹凸部,该凹凸部具有将所述第一边的凹凸部在与所述第一边垂直的方向上反转或平行移动的形状,并且,在与所述第二边平行的边上设置有凹凸部,该凹凸部具有将所述第二边的凹凸部平行移动的形状。
6.如权利要求1或2所述的显示设备,其特征在于,
具备第二堤,其包围所述第一堤,
在所述第二堤中,与所述第一边平行的边及与所述第二边平行的边上分别设置有凹凸部,以使所述第一堤和所述第二堤之间的距离是固定的。
7.一种显示设备的制造方法,
所述显示设备具备:
电路基板,其在表面上设置有平坦化层;
多个发光元件,其设置在所述平坦化层上;
密封膜,其包含第一无机膜、在所述第一无机膜的上层的树脂膜、在所述树脂膜的上层的第二无机膜,并密封所述发光元件;
第一堤,其包围所述平坦化层,并且,内侧被所述树脂膜覆盖,所述平坦化层具有第一边和与所述第一边正交的第二边,
所述制造方法的特征在于,包括:
形成所述平坦化层的工序;
形成包围所述平坦化层的所述第一堤的工序;
形成覆盖所述第一堤的内侧的所述树脂膜的工序,
在形成所述平坦化层的工序中,在所述平坦化层的边缘部全周形成凹凸部,在俯视观察时所述凹凸部在所述第一边和所述第二边的大小不同,
在形成所述树脂膜的工序中,墨滴从喷墨涂布装置滴落在由所述第一堤包围的区域中与所述凹凸部相对应的区域。
8.如权利要求7所述的显示设备的制造方法,其特征在于,
在形成所述树脂膜的工序中,
所述第二边是垂直于所述墨滴的涂布方向的边,当所述喷墨涂布装置中的滴落所述墨滴的喷嘴的间距为p2(μm)、所述墨滴的涂布频率为f(l/s)、扫描速度为v(μm/s)、俯视观察时的所述第二边的凹凸部中的所述凹凸的间距为P2(μm/s)、俯视观察时的所述第二边的凹凸部中的所述凹凸的深度为D2(μm)时,P2=p2、D2=v/(2×f)。
9.如权利要求8所述的显示设备的制造方法,其特征在于,
在形成所述树脂膜的工序中,
当所述喷墨涂布装置对相同区域的滴落次数为n(次)、来自所述喷嘴的墨滴的一滴量为V(pl),所述树脂膜的厚度为t(μm),则P2=V×103×n/(t×v/f)、D2=V×103×n/(p2×2×t)。
10.如权利要求8或9所述的显示设备的制造方法,其特征在于,
在形成所述树脂膜的工序中,
所述第一边是与所述墨滴的涂布方向平行的边,当俯视观察时的所述第一边的凹凸部中所述凹凸的间距为P1(μm/s)、俯视观察时的所述第一边的凹凸部中的所述凹凸的深度为D1(μm),则P1=v/f、D1=v2/(2×p2×f2)。
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