[发明专利]光脉冲展宽器、激光装置及电子器件的制造方法有效

专利信息
申请号: 201880092212.3 申请日: 2018-05-28
公开(公告)号: CN112005454B 公开(公告)日: 2023-06-13
发明(设计)人: 芦川耕志 申请(专利权)人: 极光先进雷射株式会社
主分类号: H01S3/10 分类号: H01S3/10
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 于英慧;崔成哲
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 脉冲 展宽 激光 装置 电子器件 制造 方法
【说明书】:

光脉冲展宽器具备:分离光学元件,其将入射到第一面的脉冲激光分离为第一透射光和第一反射光;反射光学系统,其引导第一反射光,使其入射到分离光学元件的与第一面相反侧的第二面,保持部件,其配置在反射光学元件的背面侧,保持反射光学元件。

技术领域

本公开涉及光脉冲展宽器、激光装置以及电子器件的制造方法。

背景技术

激光退火装置是对在玻璃基板上形成的无定形(非晶)硅膜照射从准分子激光器等激光装置输出的具有紫外线区域的波长的脉冲激光,使其改性为多晶硅膜的装置。通过将非晶硅膜改性为多晶硅膜,能够制作TFT(薄膜晶体管)。该TFT用于比较大的液晶显示器。

在先技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2005-148549号公报

专利文献2:日本特开2002-075831号公报

专利文献3:美国专利申请公开第2007/0280308号说明书

发明内容

本公开的一个方面的光脉冲展宽器具备:分离光学元件,其将入射到第一面的脉冲激光分离为第一透射光和第一反射光;反射光学系统,其引导第一反射光,使第一反射光入射到分离光学元件的与第一面相反侧的第二面;以及保持部件,其具有开口面积比包含在反射光学系统中的反射光学元件的反射面的面积小的贯通孔,配置在反射光学元件的背面侧,保持反射光学元件。

本公开的一个方面的激光装置具备:激光谐振器;激光腔,其配置于激光谐振器,收容激光气体;一对放电电极,它们配置于激光腔;以及光脉冲展宽器,其配置在从激光谐振器输出的脉冲激光的光路上。光脉冲展宽器具备:分离光学元件,其将入射到第一面的脉冲激光分离为第一透射光和第一反射光;反射光学系统,其引导第一反射光,使第一反射光入射到分离光学元件的与第一面相反侧的第二面;以及保持部件,其具有开口面积比包含在反射光学系统中的反射光学元件的反射面的面积小的贯通孔,配置在反射光学元件的背面侧,保持反射光学元件。

本公开的一个方面的电子器件的制造方法包含如下步骤:由激光装置生成脉冲激光;将脉冲激光输出到激光退火装置;以及在激光退火装置内向基板上照射脉冲激光,以制造电子器件。激光装置具备:激光谐振器;激光腔,其配置于激光谐振器,收容激光气体;一对放电电极,它们配置于激光腔;以及光脉冲展宽器,其配置在从激光谐振器输出的脉冲激光的光路上。光脉冲展宽器具备:分离光学元件,其将入射到第一面的脉冲激光分离为第一透射光和第一反射光;反射光学系统,其引导第一反射光,使第一反射光入射到分离光学元件的与第一面相反侧的第二面;以及保持部件,其具有开口面积比包含在反射光学系统中的反射光学元件的反射面的面积小的贯通孔,配置在反射光学元件的背面侧,保持反射光学元件。

附图说明

下面,仅仅作为例子,参照附图说明本公开的几个实施方式。

图1示意性地表示比较例的激光装置1和激光退火装置40的结构。

图2A概略地表示本公开的第一实施方式的光脉冲展宽器16a的结构。图2B放大表示图2A的IIB-IIB线处的射束截面和从IIB-IIB线的位置观察到的保持架。图2C放大表示图2A的IIC-IIC线处的射束截面和从IIC-IIC线的位置观察到的保持架。图2D放大表示图2A的IID-IID线处的射束截面。

图3表示本公开的第一实施方式的第一变形例的射束截面和保持架。

图4表示本公开的第一实施方式的第二变形例的射束截面和保持架。

图5表示本公开的第一实施方式的第三变形例的射束截面和保持架。

图6概略地表示本公开的第二实施方式的第一例的光脉冲展宽器16e的结构。

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