[发明专利]成膜装置

说明书

本发明的目的在于提供一种能够不降低成膜品质、成膜速度地、以低成本在基板上形成薄膜的成膜装置。而且，在本发明中，红外光照射器(2)配置于下部容器(62)内的从传送带(53)分离的位置。红外光照射器(2)从多个红外光灯(22)朝向上方照射红外光，执行对载置于带(52)的上表面的多个基板(10)的加热处理。在成膜室(6A)内，通过同时执行基于红外光照射器(2)的红外光照射的加热处理和基于薄膜形成喷嘴(1)的雾喷射处理，从而在载置于带(52)的上表面的基板(10)上形成薄膜。

技术领域

本发明涉及用于太阳能电池等电子器件的制造中、在基板上形成薄膜的成膜装置。

背景技术

作为在基板上形成膜的方法，有化学气相沉积(CVD(Chemical VaporDeposition))法。但是，在化学气相沉积法中，需要真空下的成膜的情况多，除了真空泵等以外，还需要使用大型的真空容器。进而，在化学气相沉积法中，从成本等观点出发，存在难以采用大面积的基板作为被成膜的基板的问题。因此，能够进行大气压下的成膜处理的雾法受到关注。

作为与利用了雾法的成膜装置有关的现有技术，例如存在专利文献1的技术。

在专利文献1的技术中，从在包含雾喷射用喷嘴等的雾喷射头部的底面设置的原料溶液喷出口以及反应材料喷出口，对于配置于大气中的基板喷射被雾化的原料溶液以及反应材料。通过该喷射，在基板上形成膜。此外，反应材料是指有助于与原料溶液的反应的材料。

图3是表示以往的成膜装置的概略结构的说明图。如该图所示，作为基板载置部的基板装载台30在上表面载置有多个基板10。

基板装载台30具有基于真空吸附的吸附机构31，通过该吸附机构31，能够将所载置的多个基板10各自的整个背面吸附于基板装载台30的上表面上。而且，基板装载台30在吸附机构31的下方设置有加热机构32，通过该加热机构32，能够对载置于基板装载台30上表面的多个基板10执行加热处理。

薄膜形成喷嘴1(雾喷射部)执行从设置于喷射面1S的喷射口向下方喷射原料雾MT的雾喷射处理。另外，原料雾MT是将原料溶液雾化而得到的雾，能够通过薄膜形成喷嘴1将原料雾MT向大气中喷射。

薄膜形成喷嘴1、基板装载台30、在基板装载台30的上表面上载置的多个基板10全部被收纳于成膜室60中。成膜室60由上部容器68、下部容器69以及门67构成。成膜室60在进行成膜处理时，使门67为关闭状态而将上部容器68、下部容器69间的开口部封堵，由此能够将薄膜形成喷嘴1、基板装载台30以及多个基板10从外部隔断。

因此，通过使成膜室60的门67为关闭状态，在加热机构32的加热处理中，通过薄膜形成喷嘴1执行雾喷射处理，由此能够在载置于基板装载台30上表面的基板10上形成薄膜。

这样，以往的成膜装置通过同时执行基于薄膜形成喷嘴1的雾喷射处理和基于加热机构32的加热处理，由此在基板10上形成薄膜。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：国际公开第2017/068625号

发明内容

发明解决的技术问题

如上所述，以往的成膜装置，一般是将加热机构32设置于在上表面上载置成为成膜对象物的基材即基板10的基板装载台30的内部，并将基板装载台30用作平面型加热机构。

在使用如基板装载台30那样的平面型加热机构的情况下，使基板装载台30的上表面与基板10的背面接触，使基板装载台30、基板10之间传热而执行基板10的加热处理。