[发明专利]形成具有亚微米级特征的大面积模具母版的晶圆拼接方法

说明书

提供了一种形成大面积纳米压印模具母版的方法。该方法包括在刚性平面基板上定位多个子母版拼接片。多个子母版拼接片中的每个子母版拼接片均具有纳米级图案，并且代表大面积纳米压印模具母版的子部分。所述方法还包括将所述多个子母版拼接片粘附到刚性平面基板上。该定位确定在一对相邻的子母版拼接片中的每个子母版拼接片上的纳米级图案的纳米级特征之间的距离。该距离具有微米级定位公差。还提供了大面积纳米压印模具母版和大面积纳米压印光刻的方法。

相关申请的交叉引用

本申请要求2018年6月6日提交的临时专利申请序列号62/681,662的优先权，其全部内容通过引用合并于此。

关于联邦政府赞助的研究或开发的声明

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背景技术

电子显示器是用于向各种各样的设备和产品的用户传达信息的几乎无处不在的介质。最常用的电子显示器包括阴极射线管(CRT)、等离子显示面板(PDP)、液晶显示器(LCD)、电致发光显示器(EL)、有机发光二极管(OLED)和有源矩阵OLED(AMOLED)显示器、电泳显示器(EP)以及采用机电的或电流体光调制的各种显示器(例如，数字微镜设备、电润湿显示器等)。这些调制解调器显示器中的许多显示器都需要高精度制造以制造各种显示器结构和元件。

压印光刻(Imprint lithography)，尤其是纳米压印光刻是许多可用的制造技术和方法中的一种，这些技术和方法学可用于生产与现代电子显示器相关联的各种结构和元件。特别地，纳米压印光刻通常擅长提供具有非常高的精度的亚微米或纳米级特征，同时易于适应大规模生产。例如，纳米压印光刻可以用于通过将具有纳米级压印图案的晶圆聚集在一起或拼接来创建具有纳米级特征的印模或模具母版。然后可以将模具母版用于纳米压印光刻中，以将纳米压印图案压印到接收基板上。此外，可以结合纳米压印光刻和模具母版使用各种大批量制造方法，包括但不限于角色对角色压印，以满足大规模生产的需求。但是，在大面积模具母版上提供亚微米或纳米级特征精度可能会出现问题。特别地，实际上，如果纳米级特征精度必须延伸到晶圆的边界之外，例如，在不同晶圆上的纳米级特征之间，则可能妨碍跨大面积模具母版维持纳米级精度。这样，尽管使用压印光刻甚至纳米压印光刻的大规模制造可能已经成熟，但是这些制造处理通常限于微米或更大规模的特征。

附图说明

参考结合附图进行的以下详细描述，可以更容易地理解根据本文描述的原理的示例和实施例的各种特征，其中相同的附图标记表示相同的结构元件，其中：

图1A示出了根据与本文描述的原理一致的实施例的示例中的大面积纳米压印模具母版的截面图。

图1B示出了根据与本文描述的原理一致的另一实施例的示例中的大面积纳米压印模具母版的截面图。

图2示出了根据与本文描述的原理一致的实施例的示例中的大面积纳米压印模具母版的截面图。

图3A示出了根据与本文描述的原理一致的实施例的示例中的大面积纳米压印模具母版的截面图。

图3B示出了根据与本文描述的原理一致的另一实施例的示例中的大面积纳米压印模具母版的截面图。

图4示出了根据与本文描述的原理一致的实施例的示例中的大面积纳米压印模具母版的平面图。

图5示出了根据与本文描述的原理一致的实施例的示例中的形成大面积纳米压印模具母版的方法的流程图。

图6A示出了根据与本文描述的原理一致的实施例的示例中的使用大面积纳米压印模具母版来执行大面积纳米压印光刻的截面图。

图6B示出了根据与本文描述的原理一致的实施例的示例中的使用图6A的大面积纳米压印模具母版的另一截面图。

图6C示出了根据与本文描述的原理一致的实施例的示例中的使用图6A的大面积纳米压印模具母版的另一截面图。