[发明专利]光刻系统的维护管理方法、维护管理装置和计算机可读介质

权利要求书

1.一种光刻系统的维护管理方法，其包含如下步骤：

按照每个光刻单元整理工作信息，保存每个所述光刻单元的所述工作信息，该光刻单元是构成进行抗蚀剂的涂布、曝光和显影的所述光刻系统的1组单位的装置组；

按照每个所述光刻单元整理与所述装置组的各装置中的作为维护对象的消耗品有关的维护信息，保存每个所述光刻单元的与所述消耗品有关的所述维护信息；

根据每个所述光刻单元的所述工作信息和每个所述光刻单元的与所述消耗品有关的所述维护信息，计算每个所述光刻单元的所述消耗品的标准维护时期；

根据每个所述光刻单元的所述消耗品的所述标准维护时期、对每个所述光刻单元的所述消耗品进行更换而导致的停工时间的信息、每个所述光刻单元的或包含2个以上的所述光刻单元在内的每个生产线的所述停工时间导致的损失成本信息，生成每个所述光刻单元的或每个所述生产线的维护调度计划；以及

输出所述维护调度计划的生成结果。

2.根据权利要求1所述的维护管理方法，其中，

所述工作信息包含过去的工作数据。

3.根据权利要求2所述的维护管理方法，其中，

所述工作信息包含今后的工作预定数据。

4.根据权利要求1所述的维护管理方法，其中，

所述光刻单元包含涂布/显影装置、曝光装置和激光装置。

5.根据权利要求4所述的维护管理方法，其中，

所述工作信息，包含数据取得日，并且

包含每个光刻单元的晶片处理枚数、曝光装置的曝光脉冲数、激光装置的振荡脉冲数、从激光装置输出的脉冲激光的脉冲能量中的至少一个。

6.根据权利要求5所述的维护管理方法，其中，

所述工作信息还包含配方信息，该配方信息表示与各抗蚀剂材料和各掩模图案对应的曝光条件。

7.根据权利要求1所述的维护管理方法，其中，

每个所述光刻单元的与所述消耗品有关的所述维护信息包含所述消耗品各自的寿命值、标准维护时间、更换成本、寿命参数值，

所述标准维护时间是估计出的单独更换所述消耗品导致的停工时间，

所述寿命参数值是与所述消耗品的寿命相关的寿命参数的值。

8.根据权利要求7所述的维护管理方法，其中，

所述维护管理方法还包含如下步骤：

按照每个所述光刻单元取得寿命预测信息，该寿命预测信息包含与各自的所述消耗品的寿命相关的寿命监视参数的信息；

根据所述寿命预测信息计算每个所述光刻单元各自的所述消耗品的预测寿命值；以及

保存所述预测寿命值的数据作为所述寿命值。

9.根据权利要求7所述的维护管理方法，其中，

所述维护管理方法还包含如下步骤：

受理第1维护日确定信号的输入，该第1维护日确定信号确定所述生成的所述维护调度计划中的第1维护日；以及

根据所述第1维护日确定信号对所述第1维护日被确定的所述消耗品的所述寿命参数值进行复位。

10.根据权利要求1所述的维护管理方法，其中，

所述维护管理方法还包含如下步骤：

取得维护候选日；以及

根据所取得的所述维护候选日，选定在所述维护候选日进行更换的所述消耗品。

11.根据权利要求1所述的维护管理方法，其中，

所述损失成本信息是每个所述光刻单元的晶片处理停止时的每单位时间产生的损失成本的信息。

12.根据权利要求1所述的维护管理方法，其中，

所述损失成本信息是每个所述生产线的晶片处理停止时的每单位时间产生的损失成本的信息。