[发明专利]材料沉积设备、真空沉积系统及用以处理大面积基板的方法

说明书

说明了一种用以在真空腔室中沉积材料于基板上的材料沉积设备。这种材料沉积设备包括掩模传送轨道，掩模传送轨道的至少一部份设置于真空腔室中，掩模传送轨道经装配以支撑掩模载体来支承掩模组件，掩模组件具有掩模框架及掩模；掩模平台，经装配以支撑掩模组件；以及支承装置，耦接于掩模平台，及经装配以用于基本上垂直定向的掩模组件的移交或传送。

技术领域

本公开的实施例有关于用以沉积一或多层于基板上的沉积设备，一或多层特别是包括有机材料的层。特别是，本公开的实施例有关于用以于真空沉积腔室中沉积蒸发材料于基板上的材料沉积配置、真空沉积系统、及其方法，特别是用于OLED制造。再者，实施例有关于材料沉积配置的调节。

背景技术

有机蒸发器为用于制造有机发光二极管(OLED)的工具。OLED为一种形式的发光二极管，在OLED中，发光层包括特定的有机化合物的薄膜。有机发光二极管(OLED)用来制造电视屏幕、电脑屏幕、移动电话、其他手持装置等来显示信息。OLED可也用于一般空间照明。OLED显示器的可行的颜色、亮度、及视角的范围大于传统LCD显示器的可行的颜色、亮度、及视角的范围，因为OLED像素直接发光及不包含背光。因此，相较于传统LCD显示器的能量损耗，OLED显示器的能量损耗相当地少。再者，可制造于柔性基板上的OLED产生其他的应用。

对于RGBOLED显示器制造来说，数个层利用像素掩模沉积于基板上，这些层例如是包括有机材料的层。像素掩模提供开孔，开孔具有显示器的像素的尺寸。特别是针对大面积基板来说，相对于基板的掩模对准非常具挑战性。在沉积数个基板之后，举例为沉积20个至50个基板之后，替换掩模来进行维护及/或清洗。为了进行掩模替换，掩模由掩模载体支撑。掩模载体在沉积期间支撑掩模，还在制造系统中传送掩模。举例来说，掩模可从沉积腔室传送至掩模清洗腔室，及反之亦然。

像素掩模一般于水平位置中制造，像素掩模例如是精密金属掩模(FFM)。对于大面积基板及增加基板尺寸来说，于系统中具有垂直或基本上垂直的基板的基板处理系统可减少占地面积。然而，将掩模载体支撑掩模的定向从水平制造位置改变至垂直位置可能导致像素准确性的品质下降。再者，传送掩模的掩模载体有利地具有一设计，这种设计在基板处理系统中传送掩模及在沉积期间支撑掩模之间提供折衷。

发明内容

有鉴于上述，提出一种材料沉积设备、一种真空处理系统、及一种用以处理基板的方法。此基板特别是垂直定向的大面积基板。

根据一方面，提出一种用以在真空腔室中沉积材料于基板上的材料沉积设备。这种材料沉积设备包括：掩模传送轨道，掩模传送轨道的至少一部份设置于真空腔室中，掩模传送轨道经装配以支撑掩模载体来支承掩模组件，掩模组件具有掩模框架及掩模；掩模平台，经装配以支撑掩模组件；以及支承装置，耦接于掩模平台，及经装配以用于基本上垂直定向的掩模组件的移交或传送。

根据另一方面，提出一种真空处理系统。这种系统包括根据此处所述实施例的任一者的材料沉积设备；以及其他真空腔室，通过第一阀耦接于材料沉积设备的真空腔室，第一阀设置于真空腔室的第一侧。举例来说，这种材料沉积设备可包括：掩模传送轨道，掩模传送轨道的至少一部份设置于真空腔室中，掩模传送轨道经装配以支撑掩模载体来支承掩模组件，掩模组件具有掩模框架及掩模；掩模平台，经装配以支撑掩模组件；以及支承装置，耦接于掩模平台，及经装配以用于基本上垂直定向的掩模组件的移交或传送。

根据另一方面，一种用以处理垂直定向的大面积基板的方法。这种方法包括在材料沉积组件的真空腔室中以垂直定向传送掩模载体上的掩模组件，掩模组件包括掩模框架及掩模；以及按垂直定向将的掩模组件从掩模载体移交或传送至掩模平台。此外，根据一些实施例，可在处理之前从真空腔室移除掩模载体，以例如进行基板处理。

附图说明

为了使可详细了解本公开的上述特征，简要摘录于上的本公开的更具体的说明可参照实施例进行。附图有关于本公开的实施例及说明于下文中：

图1绘示根据此处所述实施例的真空沉积系统的示意图；