[发明专利]磁悬浮系统、磁悬浮系统的底座、真空系统、及在真空腔室中非接触地保持及移动载体的方法在审
申请号: | 201880097761.X | 申请日: | 2018-09-19 |
公开(公告)号: | CN112740392A | 公开(公告)日: | 2021-04-30 |
发明(设计)人: | 亨宁·奥斯特;托尔斯滕·迈斯 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国;赵静 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 磁悬浮 系统 底座 真空 空腔 中非 接触 保持 移动 载体 方法 | ||
一种用于在真空腔室中非接触地保持及移动载体的磁悬浮系统,包括底座,界定传送轨道;载体,沿着传送轨道在底座的上方是可移动的;以及至少一个磁性轴承,用于在底座及载体之间产生磁悬浮力。所述至少一个磁性轴承包括布置于底座的第一磁体单元及布置于载体的第二磁体单元。磁悬浮系统更包括磁性侧向稳定装置,用于在侧向方向中稳定载体,磁性侧向稳定装置包括布置于底座的稳定磁体单元;其中第一磁体单元及第一稳定磁体单元的至少一者布置在底座的壳体空间中,壳体空间通过分隔壁与真空腔室的内部容积分隔。
技术领域
本公开内容的实施方式涉及磁悬浮系统的技术领域,特别是用于在真空系统(例如材料沉积系统)中的基板处理及传送。本公开内容的实施方式尤其涉及磁悬浮系统及用于在真空腔室中非接触地保持及移动载体的方法。更特别是,本公开内容的实施方式涉及用于传送载体的磁悬浮系统、磁悬浮系统的底座、及包括磁悬浮系统的真空腔室。再者,本公开内容的实施方式涉及用于在真空腔室中在基本上水平定向中非接触地保持及移动载体的方法。
背景技术
用于基板上的层沉积的技术举例为包括溅射沉积、物理气相沉积(physicalvapor deposition,PVD)、化学气相沉积(chemical vapor deposition,CVD)、热蒸发及旋转涂布。已涂布的基板可使用于数种应用中及数种技术领域中。举例来说,已涂布的基板可使用于在晶片上制造电子装置或用于制造显示器装置。显示器装置可使用来制造电视屏幕、计算机屏幕、移动电话、其他手持装置、及用于显示信息的类似者。一般来说,显示器通过使用不同材料层的堆叠涂布基板来进行制造。
为了在基板上沉积层堆叠,可使用处理模块的布置。处理系统包括多个后续处理模块,例如是沉积模块及可选的其他处理模块,举例为清洁模块和/或蚀刻模块,其中基板在两个或更多个处理模块中进行处理,使得多个基板可在处理系统中连续地或准连续地处理。基板的处理可在真空系统中的次大气压力(subatmospheric pressure)下进行。
基板可通过载体(即,用于承载基板的承载装置)承载通过真空系统。承载基板的载体一般利用传送系统传送通过真空系统。传送系统可经构造以用于沿着传送路径传输具有定位于其上的基板的载体。
需掌握有关于真空系统中的载体传送及在基板上沉积材料的技术挑战。特别是,载体准确、可靠及平顺传送通过真空系统具有挑战性。举例来说,在真空系统中确保传送系统的功能可具有挑战性。特别是,以低成本提供用于真空环境的自主、灵活、可靠的载体传送系统具有挑战性。特别是,传送载体而不产生颗粒具有挑战性。
因此,对于克服现有技术领域中的至少一些问题的用于传送载体的改善的系统、设备及方法,以及改善的真空系统有持续需求。
发明内容
有鉴于上述,提出了磁悬浮系统、用于多个磁悬浮系统的底座、真空系统、及在真空腔室中非接触地保持及移动载体的方法。再者,提出包括磁悬浮系统的用于基板处理的真空系统。本公开内容的其他方面、优点、及特征通过权要求书、说明书及所附附图更为清楚。
根据本公开内容的第一方面,提出用于在真空腔室中非接触地保持及移动载体的磁悬浮系统。磁悬浮系统包括底座,界定传送轨道;载体,沿着传送轨道在底座的上方是可移动的;以及至少一个磁性轴承,用于在底座及载体之间产生磁悬浮力。所述至少一个磁性轴承包括第一磁体单元及第二磁体单元,第一磁体单元布置于底座,第二磁体单元布置于载体。磁悬浮系统更包括磁性侧向稳定装置,用于在侧向方向中稳定载体,磁性侧向稳定装置包括稳定磁体单元,稳定磁体单元布置于底座。第一磁体单元和/或稳定磁体单元布置在底座的壳体空间中,壳体空间通过分隔壁与真空腔室的内部容积分隔。
根据本公开内容的第二方面,提出本文描述的磁悬浮系统的底座,用于在真空腔室中非接触地保持及移动载体。底座界定传送轨道,载体可沿着传送轨道非接触地在底座的上方移动。底座包括壳体空间,通过分隔壁与真空腔室的内部空间分隔,壳体空间经构造以容纳至少一个磁性轴承的第一磁体单元和/或磁性侧向稳定装置的稳定磁体单元。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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