[发明专利]叠层膜及Ag合金溅射靶在审
| 申请号： | 201880098094.7 | 申请日： | 2018-10-03 |
| 公开（公告）号： | CN112752863A | 公开（公告）日： | 2021-05-04 |
| 发明（设计）人： | 岁森悠人;松崎秀治;盐野一郎 | 申请（专利权）人： | 三菱综合材料株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;B32B9/00;B32B15/04;C03C17/36;C23C14/08;C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人： | 刁兴利;康泉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 叠层膜 ag 合金 溅射 | ||
1.一种层叠膜，其具备Ag合金膜以及层叠在该Ag合金膜的两面的透明介电膜，其特征在于，
所述Ag合金膜具有如下组成：总计含有0.5原子％以上且8.0原子％以下范围的Sn或Ge中的至少一种以上，而且Na、K、Ba及Te的总含量为50质量ppm以下且碳含量为50质量ppm以下，剩余部分包含Ag和不可避免的杂质。
2.根据权利要求1所述的层叠膜，其特征在于，
所述Ag合金膜总计含有0.5原子％以上且3.0原子％以下范围的Sn或Ge中的至少一种以上。
3.根据权利要求1或2所述的层叠膜，其特征在于，
所述Ag合金膜还含有选自Mg、Ca及Sb中的至少一种以上的添加元素，
当将所述添加元素的总含量设为X原子％，将Sn和Ge的总含量设为Z原子％时，二者之比X/Z在0.02≤X/Z≤0.4的范围内。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的层叠膜，其特征在于，
所述透明介电膜是含有选自Zn、Al、Sn、Ti、Si、Zr、Ta及In中的至少一种以上的氧化物膜或氮化物膜。
5.一种Ag合金溅射靶，其特征在于，
具有如下组成：总计含有0.5原子％以上且8.0原子％以下范围的Sn或Ge中的至少一种以上，而且Na、K、Ba及Te的总含量为50质量ppm以下且碳含量为50质量ppm以下，剩余部分包含Ag和不可避免的杂质。
6.根据权利要求5所述的Ag合金溅射靶，其特征在于，
所述Ag合金溅射靶总计含有0.5原子％以上且3.0原子％以下范围的Sn或Ge中的至少一种以上。
7.根据权利要求5或6所述的Ag合金溅射靶，其特征在于，
所述Ag合金溅射靶还含有选自Mg、Ca及Sb中的至少一种以上的添加元素，
当将所述添加元素的总含量设为X原子％，将Sn和Ge的总含量设为Z原子％时，二者之比X/Z在0.02≤X/Z≤0.4的范围内。
8.根据权利要求5至7中任一项所述的Ag合金溅射靶，其特征在于，
所述Ag合金溅射靶的溅射面的面积为0.25m2以上，所述溅射面的晶体粒径的平均值μGS为200μm以下，通过晶体粒径的标准偏差σGS与晶体粒径的平均值μGS由下式定义的分布DGS为25％以下，
DGS＝(σGS/μGS)×100(％)。
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