[发明专利]叠层膜及Ag合金溅射靶

说明书

一种层叠膜(10)，其具备Ag合金膜(11)以及层叠在该Ag合金膜(11)的两面的透明介电膜(12)，其特征在于，Ag合金膜(11)总计含有0.5原子％以上且8.0原子％以下范围的Sn或Ge中的至少一种以上，而且Na、K、Ba及Te的总含量为50质量ppm以下且碳含量为50质量ppm以下，剩余部分由Ag和不可避免的杂质构成。

技术领域

本发明涉及一种例如能够用作反射红外线来隔热的低辐射玻璃等的隔热膜或者显示器或控制面板等的透明导电配线膜的层叠膜，以及在对构成该层叠膜的Ag合金膜进行成膜时使用的Ag合金溅射靶。

本申请将2017年4月7日在日本申请的专利申请2017－076938号的内容援用于此。

背景技术

通常，例如，如专利文献1中所公开，上述低辐射玻璃等设定为在玻璃表面形成层叠有Ag合金膜和透明介电膜的层叠膜(隔热膜)的结构。要求用于该低辐射玻璃等的层叠膜具有高的红外线反射率和高的可见光透射率。

此外，例如，如专利文献2中所记载，这种层叠膜还用作各种显示器等的透明导电配线膜。要求该透明导电配线膜在可见光区域具有高的透光率并且具有低电阻。

当在玻璃基板等上形成Ag合金膜时，例如，如专利文献3和专利文献4中所公开，利用了使用Ag合金溅射靶的溅射法。

专利文献1：日本特开2007－070146号公报

专利文献2：日本特开平09－232278号公报

专利文献3：日本特开2004－238648号公报

专利文献4：日本特开2006－240289号公报

当上述层叠膜用作隔热膜时，要求具有透射可见光和反射红外线的光学特性。此外，当用作透明导电配线膜时，还要求透射可见光的光学特性和具有优异的导电性的电特性。

例如，当制造低辐射玻璃等时，出于强化玻璃的目的，有时会进行如下的热处理(风冷强化法)：在形成了层叠膜的状态下，加热至例如700℃并用空气等快速冷却。上述层叠膜在该热处理时，可能会在Ag合金膜产生裂纹。因此，通常在Ag合金膜的两面形成金属膜等保护膜以提高Ag合金膜的耐久性，但是通过形成保护膜，可能会产生诸如制造成本增加和光学特性降低等问题。

即使在制作各种显示器等的透明导电配线膜时，有时工序中也会包括热处理。

发明内容

本发明是鉴于上述情况而完成的，其目的在于提供一种耐热性优异且光学特性和电特性优异的层叠膜，以及在对构成该层叠膜的Ag合金膜进行成膜时使用的Ag合金溅射靶。

为了解决上述问题，本发明的层叠膜具备Ag合金膜以及层叠在该Ag合金膜的两面的透明介电膜，所述Ag合金膜具有如下组成：总计含有0.5原子％以上且8.0原子％以下范围的Sn或Ge中的至少一种以上，而且Na、K、Ba及Te的总含量为50质量ppm以下且碳含量为50质量ppm以下，剩余部分包含Ag和不可避免的杂质。

本发明的层叠膜中，Ag合金膜总计含有0.5原子％以上且8.0原子％以下的范围的Sn或Ge中的至少一种以上，因此能够提高Ag合金膜的耐热性。因此，不需要形成由金属制成的保护膜。

Na、K、Ba及Te是熔点在700℃以下而熔点比较低且难以固溶在Ag中的元素。因此，在Ag合金膜中，通过将Na、K、Ba及Te的总含量限制在50质量ppm以下，能够在热处理等中抑制这些元素富集在晶界处。

碳在热处理时被氧化成为CO气体或CO₂气体而被释放，从而可能导致在Ag合金膜上产生凹凸。因此，通过将Ag合金膜的碳含量限制在50质量ppm以下，能够在热处理等中抑制在Ag合金膜上产生凹凸。