[发明专利]使用正向参数校正和增强的逆向工程的涂布控制

权利要求书

1.一种设备，包括：

一个或更多个存储器；和

一个或更多个处理器，所述一个或更多个处理器通信地耦合到所述一个或更多个存储器，以：

接收设计信息，其中，所述设计信息标识在一次或更多次运行期间将生成的光学元件的一组层的期望值；

接收或获得历史信息，所述历史信息标识在关于所述一次或更多次运行的参数和与所述一次或更多次运行或所述光学元件相关的观察值之间的关系；

基于所述历史信息来确定关于所述一次或更多次运行的层信息，其中，所述层信息标识关于所述一组层的实现所述期望值的运行参数；和

使得所述一次或更多次运行基于所述层信息被执行。

2.根据权利要求1所述的设备，其中，所述一个或更多个处理器还：

确定标识所述一次或更多次运行的结果的信息，其中，标识所述结果的信息标识关于所述一次或更多次运行的所述观察值的值；和

基于标识所述结果的信息，修改所述运行参数中的运行参数。

3.根据权利要求2所述的设备，其中，标识所述结果的信息基于对所述光学元件的光谱测量。

4.根据权利要求2所述的设备，其中，标识所述结果的信息基于对所述光学元件的多个光谱测量。

5.根据权利要求2所述的设备，其中，所述一次或更多次运行使用多种材料，并且其中，所述历史信息标识关于所述多种材料的相应关系。

6.根据权利要求5所述的设备，其中，所述多种材料与单个靶材相关联。

7.根据权利要求5所述的设备，其中，当确定标识所述一次或更多次运行的结果的信息时，所述一个或更多个处理器还：

基于所述多个关系中的至少两个关系来确定标识所述结果的信息。

8.根据权利要求1所述的设备，其中，所述关系标识所述参数相对于所述观察值的变化率。

9.根据权利要求1所述的设备，其中，所述参数是涂布速率，以及所述观察值是靶材寿命。

10.根据权利要求1所述的设备，其中，所述运行参数包括以下项中的至少一项：

关于所述一组层的一个或更多个运行时间，

气体流速，

供给功率配置，

供给功率设定点，或

几何构型。

11.一种方法，包括：

通过涂布控制设备，接收设计信息，其中，所述设计信息标识在一次或更多次运行期间生成的光学元件的一组层的期望值；

通过所述涂布控制设备，接收或获得标识在关于所述一次或更多次运行的参数和与所述一次或更多次运行或所述光学元件相关的观察值之间的关系的历史信息；

通过所述涂布控制设备，基于所述历史信息来确定关于所述一次或更多次运行的层信息，其中，所述层信息标识关于所述一组层的实现所述期望值的运行参数；

通过所述涂布控制设备，使得所述一次或更多次运行基于所述层信息被执行；

通过所述涂布控制设备，确定标识所述一次或更多次运行的结果的信息，其中，标识所述结果的信息标识关于所述一次或更多次运行的所述观察值的值；和

通过所述涂布控制设备，基于标识所述结果的信息，修改所述运行参数中的运行参数。

12.根据权利要求11所述的方法，其中，所述涂布工艺使用多种材料，并且其中，所述历史信息标识关于所述多种材料的相应关系。

13.根据权利要求11所述的方法，其中，所述参数涉及几何构型，以及所述观察值是靶材寿命或迳流值。

14.根据权利要求11所述的方法，其中，所述参数是供给功率设定点，以及所述观察值是靶材寿命。