[发明专利]使用正向参数校正和增强的逆向工程的涂布控制

说明书

一种设备(300)可以包括一个或更多个存储器(330)和一个或更多个处理器(320)，该一个或更多个处理器通信地耦合到一个或更多个存储器(330)，以接收设计信息，其中设计信息标识在一次或更多次运行期间生成的光学元件的一组层的期望值；接收或获得标识关于一次或更多次运行的参数和与一次或更多次运行或光学元件相关的观察值之间的关系的历史信息；基于历史信息来确定关于一次或更多次运行的层信息，其中层信息标识关于一组层的实现期望值的运行参数；以及使得一次或更多次运行基于层信息被执行。

背景

涂布系统可以用于利用特定材料涂布基材。例如，溅射系统可以用于薄膜层、厚膜层和/或类似物的沉积。基于沉积一组层，可以形成光学元件。例如，薄膜可以用于形成滤波器，诸如光学干涉滤波器。

概述

根据一些实现方式，一种设备可以包括一个或更多个存储器和一个或更多个处理器，该一个或更多个处理器通信地耦合到一个或更多个存储器，以接收设计信息，其中该设计信息标识在一次或更多次运行期间生成的光学元件的一组层的期望值；接收或获得标识关于一次或更多次运行的参数和与该一次或更多次运行或光学元件相关的观察值之间的关系的历史信息；基于该历史信息来确定关于一次或更多次运行的层信息，其中，层信息标识关于一组层的实现期望值的运行参数；并且使得该一次或更多次运行基于该层信息被执行。

根据一些实现方式，一种方法可以包括通过涂布控制设备接收设计信息，其中设计信息标识在一次或更多次运行期间生成的光学元件的一组层的期望值；通过涂布控制设备接收或获得历史信息，该历史信息标识关于一次或更多次运行的参数和与一次或更多次运行或光学元件相关的观察值之间的关系；通过涂布控制设备，基于历史信息来确定关于一次或更多次运行的层信息，其中层信息标识关于一组层的实现期望值的运行参数；通过涂布控制设备，使得该一次或更多次运行基于该层信息被执行；通过涂布控制设备，确定标识一次或更多次运行的结果的信息，其中，标识结果的信息标识关于一次或更多次运行的观察值的值；以及通过涂布控制设备，基于标识结果的信息，修改运行参数中的运行参数。

根据一些实现方式，一种非暂时性计算机可读介质可以存储一个或更多个指令，该一个或更多个指令当由一个或更多个处理器执行时，使得一个或更多个处理器接收设计信息，其中，该设计信息标识关于在一次或更多次运行期间生成的光学元件的一组层的期望值；接收或获得标识关于一次或更多次运行的参数和与一次或更多次运行或光学元件相关的观察值之间的关系的历史信息；基于历史信息来确定关于一次或更多次运行的层信息，其中，层信息标识关于一组层的实现期望值的运行参数；并且使得一次或更多次运行基于该层信息被执行。

附图简述

图1是关于使用基于预期的确定性工艺参数漂移的正向参数校正和增强的逆向工程的涂布控制的示例实现方式的图示。

图2A是示例涂布系统的图示。

图2B是其中可以实现本文描述的系统和/或方法的示例环境的图示。

图3是图2A和图2B的一个或更多个设备的示例部件的图示。

图4A是在没有基于预期的确定性工艺参数漂移的正向参数校正和增强的逆向工程的涂布工艺的示例结果的图表。

图4B是使用基于预期的确定性工艺参数漂移的正向参数校正和增强的逆向工程的涂布工艺的示例结果的图表。

图5是关于使用基于预期的确定性工艺参数漂移的正向参数校正和增强的逆向工程的涂布控制的示例过程的流程图。

详细描述

示例实现方式的以下详细描述参考了附图。在不同附图中的相同参考数字可以标识相同或相似的元件。