[发明专利]半导体器件的封装方法在审

专利信息
申请号: 201880098913.8 申请日: 2018-11-06
公开(公告)号: CN112889130A 公开(公告)日: 2021-06-01
发明(设计)人: 曹培炎;刘雨润 申请(专利权)人: 深圳帧观德芯科技有限公司
主分类号: H01L21/02 分类号: H01L21/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518071 广东省深圳市南山区桃源街道塘朗*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体器件 封装 方法
【权利要求书】:

1.一种方法,包括:

在半导体衬底的第一表面上形成第一导电层,其中,所述第一导电层与所述半导体电接触;

在所述第一导电层处,将支撑晶片接合到所述半导体衬底;

使所述半导体衬底变薄。

2.根据权利要求1所述的方法,还包括在所述半导体衬底的与所述第一表面相对的第二表面上形成电触点。

3.根据权利要求2所述的方法,还包括:

获得其中具有电路的芯片;

通过在所述第二表面处将所述芯片接合到所述半导体衬底,将所述电路电连接到所述电触点。

4.根据权利要求3所述的方法,还包括封装所述芯片和所述半导体衬底。

5.根据权利要求3所述的方法,还包括通过去除所述支撑晶片来暴露所述第一导电层的至少一部分。

6.根据权利要求1所述的方法,还包括在所述半导体衬底中形成p-n结或p-i-n结。

7.根据权利要求1所述的方法,其中,所述第一表面是抛光的。

8.根据权利要求1所述的方法,其中,所述第一导电层包含金属。

9.根据权利要求8所述的方法,其中,所述金属包括Al、Au或其组合。

10.根据权利要求1所述的方法,其中,所述支撑晶片包含氧化硅层。

11.根据权利要求1所述的方法,其中,所述支撑晶片包含在接合之后与所述第一导电层接触的第二导电层。

12.根据权利要求1所述的方法,还包括对所述半导体衬底进行激光退火。

13.根据权利要求1所述的方法,其中,使所述半导体衬底变薄包括在所述半导体衬底上进行化学机械平坦化,蚀刻所述半导体衬底或两者。

14.根据权利要求1所述的方法,还包括将所述第一导电层电接地。

15.根据权利要求3所述的方法,其中,所述电路包括被配置为处理或分析从所述半导体衬底产生的电信号的电子系统。

16.根据权利要求15所述的方法,其中,所述电子系统包括接触垫。

17.根据权利要求16所述的方法,其中,所述电子系统包括:

第一电压比较器,被配置为将所述接触垫的电压与第一阈值进行比较;

第二电压比较器,被配置为将所述电压与第二阈值进行比较;

计数器,被配置为记录由所述衬底吸收的辐射粒子的数量;

控制器;

其中,所述控制器被配置为从所述第一电压比较器确定所述电压的绝对值等于或超过所述第一阈值的绝对值的时间开始时间延迟;

其中,所述控制器被配置为在所述时间延迟期间激活所述第二电压比较器;

其中,所述控制器被配置为:如果所述第二电压比较器确定所述电压的绝对值等于或超过所述第二阈值的绝对值,则使所述计数器记录的数量增加1。

18.根据权利要求17所述的方法,其中,所述电子系统还包括电连接到所述接触垫的积分器,其中所述积分器被配置为从所述接触垫收集电荷载流子。

19.根据权利要求17所述的方法,其中,所述控制器被配置为在所述时间延迟开始或期满时激活所述第二电压比较器。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳帧观德芯科技有限公司,未经深圳帧观德芯科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201880098913.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top