[发明专利]异构成像传感器系统的多图案基准

权利要求书

1.一种用于异构成像传感器系统的多图案基准，其包括：

可由第一电磁能量波长检测的第一图案；以及

可由第二电磁能量波长检测的至少第二图案。

2.根据权利要求1所述的多图案基准，其中，第一图案和至少第二图案传达不同的信息。

3.根据权利要求1所述的多图案基准，其中，多图案基准是基于二维(2D)的基准。

4.根据权利要求1所述的多图案基准，其中，多图案基准是基于三维(3D)的基准。

5.一种异构成像传感器系统，其包括：

多图案基准，其包括可由对应数量的电磁能量波长检测的多个图案；

第一成像设备，用于感测多个图案中的第一个，第一成像设备检测所述数量的电磁能量波长中的第一个；以及

第二成像设备，用于感测多个图案中的第二个，第二成像设备检测所述数量的电磁能量波长中的第二个。

6.根据权利要求5所述的异构成像传感器系统，其包括：加权模块，其可由异构成像传感器系统的处理设备执行，来对在检测多图案基准时第一成像设备的影响和第二成像设备的影响进行加权。

7.根据权利要求6所述的异构成像传感器系统，其中，加权基于信号强度、第一和第二成像设备的方位、第一和第二成像设备的角度、检测到的特征的大小、检测到的特征的量，或它们的组合。

8.根据权利要求6所述的异构成像传感器系统，其中，加权模块使用统计信号分析、用于多图案跟踪的基于概率的预测、传感器融合，或它们的组合。

9.根据权利要求5所述的异构成像传感器系统，其包括：校准模块，其可由异构成像传感器系统的处理设备执行，以针对成像设备到成像设备的三维(3D)映射来实行基于几何的校准，并且以最佳信号响应实行对每个成像设备的设置的校准，以实行可见波长信号校准、红外波长信号校准、紫外（UV）信号校准，或它们的组合。

10.根据权利要求5所述的异构成像传感器系统，其中：

第一成像设备和第二成像设备在所述数量的电磁能量波长中的第一个和所述数量的电磁能量波长中的第二个处感测多图案基准的相同图案，以增加信噪比（SNR），

其中，异构成像传感器系统基于第一信号和第二信号的SNR，以更高的权重对从第一成像设备接收的第一信号和从第二成像设备接收的第二信号进行加权。

11.根据权利要求5所述的异构成像传感器系统，其中，多图案基准包括：可由第一和第二成像设备成像的多个多图案基准，其中：

多个多图案基准位于第一和第二成像设备的视场内的不同位置，

多个多图案基准中的每一个包括不同的图案，反射不同电磁辐射波长，或它们的组合。

12.一种检测对象的方法，其包括：

在对象上放置多图案基准；

利用第一成像设备，感测可由第一电磁能量波长检测的多图案基准的第一图案；以及

利用第二成像设备，感测可由第二电磁能量波长检测的多图案基准的第二图案。

13.根据权利要求12所述的方法，其包括：利用可由处理设备执行的加权模块，基于信号强度、第一和第二成像设备的方位、第一和第二成像设备的角度、检测到的特征的大小、检测到的特征的量、统计信号分析、用于多模式跟踪的基于概率的预测、传感器融合或它们的组合，来对在检测多图案基准时第一成像设备的影响和第二成像设备的影响进行加权。

14.根据权利要求12所述的方法，进一步包括：利用可由处理设备执行的校准模块：

针对成像设备到成像设备的三维(3D)映射来实行基于几何的校准；以及

以最佳信号响应来校准第一成像设备和第二成像设备的设置中的每一个。

15.根据权利要求12所述的方法，进一步包括：利用可由处理设备执行的校准模块，实行可见波长信号校准、红外波长信号校准、紫外（UV）信号校准，或它们的组合。