[发明专利]一种透明电极图案的修复方法及触控显示面板在审
| 申请号： | 201910002579.8 | 申请日： | 2019-01-02 |
| 公开（公告）号： | CN109753183A | 公开（公告）日： | 2019-05-14 |
| 发明（设计）人： | 朱海鹏;李云泽;吴海龙;但艺;冉敏;江鹏;付剑波;周焱;毛大龙 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/041 | 分类号： | G06F3/041;G02F1/13 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 郭润湘 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 透明电极图案 光刻胶图案 修复层 制备 触控显示面板 修复 残缺 透明电极层 图案化处理 光刻胶层 终端产品 刻胶层 良率 去除 剥离 屏幕 图案 保留 暴露 检测 | ||
1.一种透明电极图案的修复方法，其特征在于，包括：
检测形成的透明电极图案是否存在缺陷；
在存在缺陷的透明电极图案上形成光刻胶层；
对光刻胶层进行图案化处理，形成与理想透明电极图案互补的光刻胶图案，并暴露出存在缺陷的透明电极图案；
在所述光刻胶图案和存在缺陷的透明电极图案上形成修复层；
剥离所述光刻胶图案的同时去除所述修复层位于所述光刻胶图案之上的部分，使所述修复层保留的部分与存在缺陷的透明电极图案构成所述理想透明电极图案。
2.根据权利要求1所述的修复方法，其特征在于，所述对光刻胶层进行图案化处理，具体包括：
采用与形成所述透明电极图案相同的掩模板，对所述光刻胶层进行图案化处理。
3.根据权利要求2所述的修复方法，其特征在于，所述在存在缺陷的透明电极图案上形成光刻胶层，具体包括：
在采用负性光刻胶形成所述透明电极图案时，采用正性光刻胶在存在缺陷的透明电极图案上形成光刻胶层。
4.根据权利要求2所述的修复方法，其特征在于，所述在存在缺陷的透明电极图案上形成光刻胶层，具体包括：
在采用正性光刻胶形成所述透明电极图案时，采用负性光刻胶在存在缺陷的透明电极图案上形成光刻胶层。
5.根据权利要求2所述的修复方法，其特征在于，所述在存在缺陷的透明电极图案上形成光刻胶层，具体包括：
在采用正性光刻胶形成所述透明电极图案时，采用正性光刻胶在存在缺陷的透明电极图案上形成光刻胶层；其中，
所述透明电极图案的具体形成过程包括：在正性光刻胶图案上形成透明电极层，之后剥离所述正性光刻胶图案的同时去除所述透明电极层位于所述正性光刻胶图案之上的部分，得到所述透明电极图案。
6.根据权利要求5所述的修复方法，其特征在于，所述透明电极图案的具体形成过程还包括：
在剥离所述正性光刻胶图案之前，对所述透明电极层位于所述正性光刻胶图案之上的部分进行激光打孔处理。
7.根据权利要求2所述的修复方法，其特征在于，所述在存在缺陷的透明电极图案上形成光刻胶层，具体包括：
在采用负性光刻胶形成所述透明电极图案时，采用负性光刻胶在存在缺陷的透明电极图案上形成光刻胶层；其中，
所述透明电极图案的具体形成过程包括：在负性光刻胶图案上形成透明电极层，之后剥离所述负性光刻胶图案的同时去除所述透明电极层位于所述负性光刻胶图案之上的部分，得到所述透明电极图案。
8.根据权利要求7所述的修复方法，其特征在于，所述透明电极图案的具体形成过程还包括：
在剥离所述负性光刻胶图案之前，对所述透明电极层位于所述负性光刻胶图案之上的部分进行激光打孔处理。
9.根据权利要求1-8任一项所述的修复方法，其特征在于，在所述光刻胶图案和存在缺陷的透明电极图案上形成修复层之后，且剥离所述光刻胶图案的同时去除所述修复层位于所述光刻胶图案之上的部分之前，还包括：
对所述修复层位于所述光刻胶图案之上的部分进行激光打孔处理。
10.一种触控显示面板，其特征在于，包括显示面板，位于所述显示面板显示面的触控电极图案，所述触控电极图案采用如权利要求1-9任一项所述的修复方法形成。
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