[发明专利]一种透明电极图案的修复方法及触控显示面板在审
申请号: | 201910002579.8 | 申请日: | 2019-01-02 |
公开(公告)号: | CN109753183A | 公开(公告)日: | 2019-05-14 |
发明(设计)人: | 朱海鹏;李云泽;吴海龙;但艺;冉敏;江鹏;付剑波;周焱;毛大龙 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G06F3/041 | 分类号: | G06F3/041;G02F1/13 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 郭润湘 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 透明电极图案 光刻胶图案 修复层 制备 触控显示面板 修复 残缺 透明电极层 图案化处理 光刻胶层 终端产品 刻胶层 良率 去除 剥离 屏幕 图案 保留 暴露 检测 | ||
本发明涉及显示技术领域,公开了一种透明电极图案的修复方法及触控显示面板,该制备方法中,包括检测形成的透明电极图案是否存在缺陷;在存在缺陷的透明电极图案上形成光刻胶层;对光刻胶层进行图案化处理,形成与理想透明电极图案互补的光刻胶图案,并暴露出存在缺陷的透明电极图案;在光刻胶图案和存在缺陷的透明电极图案上形成修复层;剥离光刻胶图案的同时去除修复层位于光刻胶图案之上的部分,使修复层保留的部分与存在缺陷的透明电极图案构成理想透明电极图案。上述透明电极层的制备方法中,通过在存在图案残缺的透明电极图案上制备修复层以构成理想透明电极图案,实现对残缺的透明电极图案进行修复,提高了终端产品的良率和屏幕的性能。
技术领域
本发明涉及显示技术领域,特别涉及一种透明电极图案的修复方法及触控显示面板。
背景技术
在薄膜场效应晶体管液晶显示器行业中,主要是通过像素电极和公共电极之间产生的电场,来控制液晶分子的转动,达到所要显示画面的效果。像素电极的电位能否达到要求值,与数据信号是否存在延误息息相关。
SLOC产品兼具触控功能越来越受到关注,成为未来发展的趋势。传统SLOC工艺为:玻璃对盒、ITO沉积、曝光、刻蚀、OC层沉积。ITO膜层沉积前存在的颗粒、光刻胶膜层下的颗粒等污渍导致在有污渍的区域的光刻胶容易发生断裂,在ITO湿刻时药液的渗入容易导致额外的ITO断路,从而影响产品的触摸功能和良率。
因此现有技术中制备的ITO结构很容易产生触摸电极断路点,这直接影响了终端产品的良率和触摸性能,并且由于触摸电极基本都是处于面板的透光区即有效显示区,因此无法通过常规的修复工艺进行直接修复,因此造成了良率极大损失。
发明内容
本发明提供了一种透明电极图案的修复方法及触控显示面板,该透明电极图案的修复方法中,通过在存在图案残缺的透明电极图案上制备修复层以构成理想透明电极图案,实现对残缺的透明电极图案进行修复,提高了终端产品的良率和屏幕的性能。
为达到上述目的,本发明提供以下技术方案:
一种透明电极图案的修复方法,包括:
检测形成的透明电极图案是否存在缺陷;
在存在缺陷的透明电极图案上形成光刻胶层;
对光刻胶层进行图案化处理,形成与理想透明电极图案互补的光刻胶图案,并暴露出存在缺陷的透明电极图案;
在所述光刻胶图案和存在缺陷的透明电极图案上形成修复层;
剥离所述光刻胶图案的同时去除所述修复层位于所述光刻胶图案之上的部分,使所述修复层保留的部分与存在缺陷的透明电极图案构成所述理想透明电极图案。
上述透明电极图案的修复方法中,首先对已形成的透明电极图案进行检测,将存在图案残缺的显示面板筛选出来,然后在存在图案残缺的透明电极图案上涂覆光刻胶,并对光刻胶进行图案化处理,形成与理想透明电极图案互补的光刻胶图案,并暴露出存在透明电极图案,最后在光刻胶图案以及透明电极图案上形成修复层并将光刻胶进行剥离,使得修复层保留的部分与存在缺陷的透明电极图案构成理想透明电极图案,以实现对残缺的透明电极图案进行修复,在制备修复层的时候大大降低了由于污渍、光刻胶受损产生透明电极图案中发生断路的几率,提高了终端产品的良率和屏幕的性能。
并且,当制备修复层时,若透明电极图案中没有残缺的位置处有污渍,并不会影响已形成的透明电极的走线,若修复层的制备导致透明电极图案发生短路,可通过常规的激光切割进行修复;
因此,通过本透明电极图案的修复方法可有效对透明电极图案中缺失的部分进行修复,提高了产品的良率。
优选地,所述对光刻胶层进行图案化处理,具体包括:
采用与形成所述透明电极图案相同的掩模板,对所述光刻胶层进行图案化处理。
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