[发明专利]一种超薄晶圆自动刷胶装置在审

专利信息
申请号: 201910003161.9 申请日: 2019-01-03
公开(公告)号: CN110102437A 公开(公告)日: 2019-08-09
发明(设计)人: 张伟明;刘新地;周伟;沈浩 申请(专利权)人: 天通控股股份有限公司
主分类号: B05C3/09 分类号: B05C3/09;B05C11/04;B05C13/02;B05B15/50
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地址: 314412 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 刷胶 晶圆表面 自动刷胶装置 超薄晶圆 胶层 晶圆 受力 电气自动化 厚度控制 机械结构 晶圆加工 全自动刷 生产效率 刮刀 种刷 半导体 配合
【说明书】:

发明涉及半导体及晶圆表面刷胶晶圆加工技术领域,具体涉及一种超薄晶圆自动刷胶装置,是一种通过特殊的电气、机械结构,来实现晶圆表面均匀刷胶的装置,利用特殊的调节机构方便实现胶层厚度控制,同时利用特殊的结构使产品在刷胶过程中受力最小,利用电气自动化的配合来实现全自动刷胶的一种刷胶装置。该发明装置的刷胶原理完全区别于传统刷胶方法,其特殊的结构设计使刷胶过程中,刮刀不直接作用于晶圆表面,因此晶圆受力非常小,具有胶层厚度范围大,控制准确方便,产品定位方便等优势。该发明装置的运用,大大提高了晶圆以及类似产品的表面刷胶技术,能够提升生产效率及刷胶精度。

技术领域

本发明涉及半导体及晶圆表面刷胶晶圆加工技术领域,具体涉及一种超薄晶圆自动刷胶装置,是一种通过特殊的电气、机械结构,来实现晶圆表面均匀刷胶的装置,即利用特殊的调节机构方便实现胶层厚度控制,同时利用特殊结构使产品在刷胶过程中受力最小,利用电气自动化的配合来实现全自动刷胶的一种装置。

背景技术

随着科技的进步,时代的发展,高科技产业迅猛发展,各种领域都在大量使用刷胶装置。特别是在半导体及晶圆加工过程中,由于工艺要求或者生产需要,通常要在晶圆表面涂覆一些材料或者胶体,称为涂胶或者刷胶工艺,由于该工艺技术含量高,要求严格,我国这方面技术及装备还处于薄弱环节。常规的刷胶加工工艺方法是利用机械结构通过毛刷、橡胶等进行表面涂刷,也有一些使用人工手动涂胶的方式,即使用毛刷等工具手动将胶体涂覆在晶圆表面,来实现刷胶工艺。传统技术的缺点是,晶圆受力大,震动大,容易碎裂;胶厚度控制存在局限性,可控性差,可控范围小。人工涂胶还存在效率低,胶层均匀性差,厚度偏差大等缺点,该发明可以填补国内该领域的空白。

发明内容

本发明针对现有技术存在的缺点和问题,提出了一种超薄晶圆自动刷胶装置,该方法利用在待刷胶晶圆表面与刷胶槽表面形成所需的空间,通过刮刀的刮胶动作,在该空间内填满所需厚度的胶体。最后,将晶圆从胶体中取出,从而达到晶圆表面刷胶的目的的一种方法。在取出晶圆后,为了清除刷胶台上残余的胶体,利用一个旋转电机带动一个刮刀,通过旋转运动将刷胶台刮干净。为了方便取出晶片,在刷胶台的下方设置了三个顶针,当刷胶结束后,顶针顶起将晶圆从胶体内移出。为了实现晶片的自动取放自动化,在刷胶装置的右侧设置了具有升降功能和伸缩功能的机械手,用于实现取片和放片。

该发明装置,刷胶原理完全区别于传统刷胶方法,由于特殊的结构设计,使得刷胶过程中,刮刀不直接作用于晶圆表面,因此晶圆受力非常小。由于刷胶台面积远大于晶圆面积的设计,使得在定位晶圆位置的时候非常方便,无需定位,大大提高了可操作性。同时这种特殊的设计特别适合,加工带有基准平边的晶圆。总体来说,该发明装置的运用,大大提高了晶圆以及类似产品的表面刷胶技术,能够大大提高生产效率,提升了刷胶精度能力,胶层厚度控制准确方便,胶层厚度范围大,产品定位方便等等优势。

为了解决背景技术所存在的问题,本发明采用以下技术方案:它包括(1)刮胶升降电机、(2)刮胶伸缩电机、(3)刮胶旋转电机、(4)刮胶板、(5)刷胶前后气缸、(6)刷胶上下气缸、(7)刷胶刮刀、(8)晶圆、(9)刷胶台、(10)刷胶槽、(11)密封圈、(12)负压腔、(13)顶针、(14)顶针气缸、(15)刷胶台升降电机、(16)取放片手臂、(17)取放片伸缩气缸、(18)取放片升降电机。

本发明的工作原理为:

在刷胶位置处,创造一个高度差,即一个所需高度的台阶,在台阶的底部放置产品,同时对产品进行固定。然后在将胶体灌满整个台阶内的空间,再利用一个标准平面,在台阶上部进行刮胶动作,将整个台阶淹没掉,即胶体填充满整个台阶,使台阶消失,成为一个平面。最后利用机构将产品顶起,在产品升起的过程中,产品边缘的胶体自然撕裂,最终取出的产品只在上表面覆盖了所需厚度的胶体,整个刷胶过程结束。

通过该方法的实施,可以在产品表面覆盖任意厚度的胶体,特点是结构简单,效率高,胶层厚度可控,并且厚度范围大,同时设计了自动机械手实现了,自动化生产,降低了生产成本。

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