[发明专利]掩模版制作方法和掩模版

权利要求书

1.一种掩模版制作方法，其特征在于，包括：

建立OPC程序；

提供设计图形，对所述设计图形中的转角图形进行预处理；

所述对所述设计图形中的转角图形进行预处理包括以转角图形的顶点作为端点，对转角图形进行尺寸分解；

确定分解后的转角图形的尺寸数据；

根据所述转角图形的尺寸数据进行OPC仿真，获得转角仿真图形；

判断所述转角仿真图形的关键尺寸与目标转角关键尺寸的差值是否处于第一预设范围内；

如果否，则对所述转角图形的尺寸数据进行调整，并根据调整后的转角图形的尺寸数据进行OPC仿真，直至仿真后获得的转角仿真图形的关键尺寸与所述目标转角关键尺寸的差值处于所述第一预设范围内时，所述调整后的转角图形作为预处理后的转角图形；

根据所述OPC程序，对包含预处理后的转角图形的所述设计图形进行OPC运算；

按照所述OPC运算后的图形制作掩模版。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在对设计图形进行OPC修正之前，所述的方法还包括：

对所述转角图形进行不同尺寸的标注，每个标注处对应有一个标号。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，在按照所述OPC运算后的图形制作掩模版之前，所述的方法还包括：

验证所述OPC运算后的图形的关键尺寸与目标关键尺寸的差值是否处于第二预设范围内；

如果是，则按照所述OPC运算后的图形制作掩模版；

如果否，则重新根据所述OPC程序，对所述包含预处理后的转角图形的所述设计图形进行OPC运算。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述验证所述OPC运算后的图形的关键尺寸与目标关键尺寸的差值是否处于第二预设范围内，包括：

对所述OPC运算后的图形进行OPC仿真，获得所述OPC运算后的图形的关键尺寸；

将所述OPC运算后的图形的关键尺寸与所述目标关键尺寸进行比较，以获得两者间的差值；

判断所述差值是否处于所述第二预设范围内。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述对所述设计图形中的转角图形进行预处理，包括：

对所述转角图形进行尺寸分解；

确定分解后的转角图形的至少一组尺寸数据，以获得至少一个转角图形；

所述对包含预处理后的转角图形的所述设计图形进行OPC运算，包括：

分别对包含不同转角图形的所述设计图形进行OPC运算，以获得至少一个第一图形；

所述按照所述OPC运算后的图形制作掩模版，包括：

根据预设标识层中的位置数据信息，按照所述至少一个第一图形制作掩模版，其中，所述预设标识层包括所述位置数据信息。

6.一种根据权利要求1-5中任一项所述的方法获得的掩模版，其特征在于，包括：

本体；

所述本体上形成有掩模图形，所述掩模图形形成为轴对称图形且具有对称轴线，所述掩模图形包括依次连通的第一图形、第二图形、第三图形和第四图形，且所述第二图形在垂直于所述对称轴线方向上的宽度大于等于所述第一图形在垂直于所述对称轴线方向上的宽度，所述第三图形在垂直于所述对称轴线方向上的宽度小于等于所述第二图形在垂直于所述对称轴线方向上的宽度，所述第四图形在垂直于所述对称轴线方向上的宽度大于等于所述第二图形在垂直于所述对称轴线方向上的宽度。

7.根据权利要求6所述的掩模版，其特征在于，所述第一图形和所述第三图形形成为沿所述对称轴线延伸的长方形。

8.根据权利要求6所述的掩模版，其特征在于，所述第二图形形成为沿所述对称轴线延伸的大体梯形，且在从所述第一图形朝向所述第四图形的方向上，所述第二图形在垂直于所述对称轴线方向上的宽度呈阶梯状增加。

9.根据权利要求6所述的掩模版，其特征在于，所述第四图形形成为“凹”字形，且所述“凹”字形的突出部分在沿所述对称轴线方向上的高度小于所述第三图形在沿所述对称轴线方向上的高度。

10.根据权利要求6-9中任一项所述的掩模版，其特征在于，所述掩模图形包括多个。