[发明专利]影像感测器、微透镜阵列以及用于制造在该影像感测器中具有不同高度的微透镜阵列的方法

说明书

本发明提供一种影像感测器、在该影像感测器的一像素尺寸等级中具有不同高度的一微透镜阵列以及用于制造在该影像感测器的像素尺寸等级中具有不同高度的一微透镜阵列的方法，本发明可以使用三种不同的光罩制造在该影像感测器的像素尺寸等级中具有不同高度的一微透镜阵列，并且本发明所揭露的在该影像感测器中的像素尺寸等级中具有不同高度的该微透镜阵列能够以较低成本为该影像感测器中的每一感光二极体提供相同的焦深(或几乎相同的焦深)。

技术领域

本发明有关于一种影像感测器和制造微透镜阵列的方法，尤指一种影像感测器、在该影像感测器中的一像素尺寸等级中具有不同高度的一微透镜阵列以及用于制造在该影像感测器的像素尺寸等级中具有不同高度的一微透镜阵列的方法。

背景技术

请参考图1至图2。图1至图2所绘示的为传统方法在影像感测器中制造微透镜阵列的顺序过程的截面示意图，其中影像感测器100包含有一感光二极体阵列110、一像素阵列120和一彩色滤光片阵列130。如图1所示，像素阵列120设置在感光二极体阵列110上方，并且像素阵列120的每一像素对应于感光二极体阵列110的每一感光二极体。彩色滤光片阵列130设置在像素阵列120上方，并且红色滤光片132、绿色滤光片134和蓝色滤光片136分别对应于像素阵列120的每一像素。每一红色滤光片132对应于像素阵列120的每一像素122以及感光二极体阵列110的每一感光二极体112，每一绿色滤光片134对应于像素阵列120的每一像素124和感光二极体阵列110的每一感光二极体114，每一蓝色滤光片136对应于像素阵列120的每一像素126和感光二极体阵列110的每一感光二极体116。传统方法在彩色滤光片阵列130上形成一微透镜材料层140，并利用光罩150漂白(bleach)微透镜材料层140。

接着，如图2所示，传统方法回流(reflow)被漂白的微透镜材料层140以形成具有相同高度的微透镜阵列10。然而，微透镜阵列10的微透镜和彩色滤光片阵列130的相对应彩色滤光片会对感光二极体阵列110的感光二极体112、114、116产生不同的焦深。因此，传统的影像感测器100具有很差的影像品质。另外，如果传统方法使用灰阶光罩来制造微透镜阵列，则将花费大量金钱并且仍然非常难以在影像感测器的像素尺寸等级中制造具有不同高度的微透镜阵列。

发明内容

因此，本发明的目的之一是提供一种影像感测器、在该影像感测器中的一像素尺寸等级中具有不同高度的一微透镜阵列以及用于制造在该影像感测器的像素尺寸等级中具有不同高度的一微透镜阵列的方法，以解决上述问题。

依据本发明的权利要求，其揭露一种用于制造在该影像感测器的像素尺寸等级中具有不同高度的一微透镜阵列的方法，其中该影像感测器具有一彩色滤光片阵列，该彩色滤光片阵列包含有分别对应于该影像感测器的每一像素与每一感光二极体的复数个第一彩色滤光片、复数个第二彩色滤光片以及复数个第三彩色滤光片，以及该方法包含有：在该彩色滤光片阵列上形成一微透镜材料层；利用一第一光罩漂白(bleach)与该影像感测器的每一像素上方的每一第一彩色滤光片对应的该微透镜材料层；利用一第二光罩漂白与该影像感测器的每一像素上方的每一第二彩色滤光片对应的该微透镜材料层；利用一第三光罩漂白与该影像感测器的每一像素上方的每一第三彩色滤光片对应的该微透镜材料层；以及回流(reflow)已被漂白的该微透镜材料层以形成具有不同高度的该微透镜阵列。

依据本发明的权利要求，其揭露一种在一影像感测器中的具有不同高度的微透镜阵列，其中该影像感测器具有一彩色滤光片阵列，该彩色滤光片阵列包含有分别对应于该影像感测器的每一像素与每一感光二极体的复数个第一彩色滤光片、复数个第二彩色滤光片以及复数个第三彩色滤光片，以及该微透镜阵列包含有：一第一组微透镜、一第二组微透镜以及一第三组微透镜。该第一组微透镜在一像素尺寸等级中具有与每一第一彩色滤光片对应的一第一可调整高度；该第二组微透镜在该像素尺寸等级中具有与每一第二彩色滤光片对应的一第二可调整高度；以及该第三组微透镜在该像素尺寸等级中具有与每一第三彩色滤光片对应的一第三可调整高度；其中该第一可调整高度高于该第二可调整高度，以及该第二可调整高度高于该第三可调整高度。