[发明专利]一种测试基板及其制作方法、测试方法

说明书

本申请实施例提供一种测试基板及其制作方法、测试方法，涉及显示技术领域，用于解决在显示电路的电学测试中，显示周边区域的测试单元的电学性能无法真实反映显示区中电路的电学特征的问题。测试基板制作方法，包括：在一显示基板上确定待测试的至少一个目标TFT；在显示基板上划分出至少一个测试区，每个目标薄膜晶体管位于一个测试区内；对测试区进行构图工艺，以形成至少一个测试孔；每个测试孔的底部暴露出目标薄膜晶体管的源极、漏极或栅极；在每个测试孔内形成测试管脚，测试管脚与目标薄膜晶体管的源极、漏极或栅极耦接。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种测试基板及其制作方法、测试方法。

背景技术

目前，为了对显示不良进行分析，通常采用光镜检查、扫描电子显微镜等对显示电路中的结构进行测试。然而，上述方式无法对电路进行电学方面的测试。

为了解决上述问题，通常会在显示区周边设置测试单元，以通过对上述测试单元进行测试获得显示区的电路的电学性能。然而，受到显示基板制作工艺稳定性的影响，周边区域测试单元的电学性能并不能直接表征显示区中电路的电学特征，因此降低了电学性能测试的准确性。

发明内容

本发明的实施例提供一种测试基板及其制作方法、测试方法，用于解决在显示电路的电学测试中，显示周边区域的测试单元的电学性能无法真实反映显示区中电路的电学特征的问题。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

本申请实施例提供一种测试基板制作方法，包括：在一显示基板上确定待测试的至少一个目标薄膜晶体管；在显示基板上划分出至少一个测试区，每个目标薄膜晶体管位于一个测试区内；对所述测试区进行构图工艺，以形成至少一个测试孔；每个所述测试孔的底部暴露出所述目标薄膜晶体管的源极、漏极或栅极；在每个所述测试孔内形成测试管脚，所述测试管脚与所述目标薄膜晶体管的源极、漏极或栅极耦接。由上述可知，在薄膜晶体管的栅极通过过孔与数据引线DL耦接的情况下，当向目标薄膜晶体管的栅极提供电压时，可以将测试设备的探针与上述数据引线搭接，从而通过该数据引线向目标薄膜晶体管的栅极提供测试的电压。或者，当目标薄膜晶体管的栅极上方具有测试孔，且该栅极与位于测试孔中的测试管脚耦接时，可以将电学测试设备的测试探针直接与上述测试管脚相接触。此外，当目标薄膜晶体管的源极上方具有测试孔，且该源极与位于测试孔中的测试管脚耦接时，可以将电学测试设备的测试探针直接与上述测试管脚相接触。和/或，当目标薄膜晶体管的漏极上方具有测试孔，且该漏极与位于测试孔中的测试管脚耦接时，可以将电学测试设备的测试探针直接与上述测试管脚相接触。这样一来，电学测试设备的测试探针通过直接与上述测试管脚，就可以直接向目标薄膜晶体管的源极、漏极或栅极提供测试的电压，以直接对上述目标薄膜晶体管的电学性能进行测试。在此情况下，无论上述目标薄膜晶体管位于显示区还是位于该显示区周边的周边区域，上述测试设备都可以直接对其电学性能进行测试，而无需通过位于上述周边区域的测试单元的电学性能表征存在缺陷的目标薄膜晶体管自身的电学性能。达到提高电学测试准确性的目的。

可选的，在每个测试孔内形成测试管脚之后，方法还包括：将测试管脚与该测试管脚相邻的一条数据引线耦接。

可选的，上述方法还包括：去除位于测试管脚周围的残留金属。

可选的，上述方法还包括：在相邻两个测试区的交界位置，将多层依次堆叠的薄膜层切断。

可选的，对测试区进行构图工艺，以形成至少一个测试孔包括：采用聚焦离子束溅射工艺，根据至少一个溅射计算模型，在对应每个目标薄膜晶体管的源极、漏极或栅极的位置分别进行离子束溅射，形成测试孔；其中，溅射计算模型中的参数包括待形成的测试孔开口的尺寸、待形成的测试孔的深度、施加至离子束的的电流和/或电压。