[发明专利]蒸镀方法及系统有效

专利信息
申请号: 201910005585.9 申请日: 2019-01-03
公开(公告)号: CN109609909B 公开(公告)日: 2021-01-26
发明(设计)人: 饶勇;刘金彪;李有亮;徐天宇;加新星;岳小非;晋亚杰;罗楠;仪修超;胡斌;陈俊蛟 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;H01L51/56
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 柴亮;陈源
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 方法 系统
【权利要求书】:

1.一种蒸镀方法,其特征在于,采用具有至少一组蒸镀源的蒸镀设备进行,每组蒸镀源包括第一蒸镀源、第二蒸镀源、第三蒸镀源,所述蒸镀方法包括:

在一个蒸镀制程内,进行第一蒸镀和第二蒸镀;

其中,所述第一蒸镀包括,将所述第三蒸镀源关闭,采用所述第一蒸镀源以第一速率向基板蒸镀第一材料,采用所述第二蒸镀源以第二速率向所述基板蒸镀第二材料;所述第二蒸镀包括,将所述第一蒸镀源关闭,采用所述第三蒸镀源以第一速率向所述基板蒸镀第一材料,采用所述第二蒸镀源以第二速率向所述基板蒸镀第二材料;且所述第一速率大于所述第二速率;

每组所述蒸镀源的所述第一蒸镀源、第二蒸镀源、第三蒸镀源沿第一方向依次排成一行,所述第一蒸镀源和所述第二蒸镀源之间的距离等于所述第二蒸镀源和所述第三蒸镀源之间的距离;

所述第一蒸镀包括:

所述第一蒸镀源的材料出口在距离所述基板的待蒸镀表面d1处向所述基板以辐射角α1蒸镀所述第一材料,所述第二蒸镀源的材料出口在距离所述基板的待蒸镀表面d2处向所述基板以辐射角β蒸镀所述第二材料;

所述第二蒸镀包括:

所述第三蒸镀源的材料出口在距离所述基板的待蒸镀表面d1处向所述基板以辐射角α2蒸镀所述第一材料,所述第二蒸镀源的材料出口在距离所述基板的待蒸镀表面d2处向所述基板以辐射角β蒸镀所述第二材料;

所述辐射角α1和所述辐射角α2相对于垂直于第一方向且过所述第二蒸镀源中点的平面对称,而垂直于第一方向且过所述第二蒸镀源中点的平面还将所述辐射角β分为对称的两部分。

2.根据权利要求1所述的蒸镀方法,其特征在于,所述第一蒸镀包括:

每组所述蒸镀源的所述第一蒸镀源和所述第二蒸镀源在平行于第一方向的方向上,从第一位置开始,在第一位置与第二之间往复运动;

所述第二蒸镀包括:

每组所述蒸镀源的所述第三蒸镀源和所述第二蒸镀源在平行于第一方向的方向上,从第二位置开始,在第二位置与第一位置之间往复运动。

3.根据权利要求2所述的蒸镀方法,其特征在于,所述进行第一蒸镀和第二蒸镀包括:进行所述第一蒸镀在第一基板上形成蒸镀层,进行所述第二蒸镀在第二基板上形成蒸镀层;

所述第一蒸镀包括:每组所述蒸镀源的所述第一蒸镀源和所述第二蒸镀源从第一位置开始,在第一位置与第二之间进行i次往复运动;

所述第二蒸镀包括:每组所述蒸镀源的所述第三蒸镀源和所述第二蒸镀源从第二位置开始,在第二位置与第一之间进行i次往复运动;

其中,i大于或等于1的正整数。

4.根据权利要求1所述的蒸镀方法,其特征在于,

所述第一蒸镀包括:每组所述蒸镀源的所述第一蒸镀源和所述第二蒸镀源在平行于第一方向的方向上,从第一位置运动到第二位置;

所述第二蒸镀包括:每组所述蒸镀源的所述第三蒸镀源和所述第二蒸镀源在平行于第一方向的方向上,从第二位置运动到第一位置。

5.根据权利要求4所述的蒸镀方法,其特征在于,所述进行第一蒸镀和第二蒸镀包括:进行所述第一蒸镀在第三基板上形成蒸镀层,进行所述第二蒸镀在第四基板上形成蒸镀层;

所述第一蒸镀包括:每组所述蒸镀源的所述第一蒸镀源和所述第二蒸镀源进行m次从第一位置到第二位置的单程运动;

所述第二蒸镀包括:每组所述蒸镀源的所述第三蒸镀源和所述第二蒸镀源进行m次从第二位置到第一位置的单程运动;

其中,m为大于或等于1的正整数。

6.根据权利要求1所述的蒸镀方法,其特征在于,所述辐射角α1和α2均为45°至85°,所述辐射角β为45°至85°;

所述d1为200mm至700mm,所述d2为200mm至700mm。

7.根据权利要求1所述的蒸镀方法,其特征在于,所述蒸镀设备包括多组蒸镀源,各组蒸镀源中的所述第一蒸镀源平行于第二方向等间距排列成一列,各组蒸镀源中的所述第二蒸镀源平行于第二方向等间距排列成一列,各组蒸镀源中的所述第三蒸镀源平行于第二方向等间距排列成一列,所述第一方向和所述第二方向互相垂直。

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