[发明专利]显示基板、显示基板的制备方法、显示装置

权利要求书

1.一种显示基板，包括衬底，所述显示基板划分为显示区和位于所述显示区外围的非显示区，所述显示区具有多个像素区域，每一所述像素区域中均设置有像素结构，所述像素结构包括多个层叠设置的有机膜层和无机膜层，其特征在于，所述非显示区靠近边缘的区域为防裂加强区，所述防裂加强区设置且仅设置所述有机膜层，所述有机膜层至少覆盖所述非显示区中与所述防裂加强区相邻的无机膜层的外缘表面；

所述像素结构包括控制元件以及发光器件，所述控制元件至少包括平坦化层，所述发光器件至少包括像素限定层，所述防裂加强区中仅设置有所述平坦化层和/或所述像素限定层；

在所述非显示区还设置有阻挡坝，所述防裂加强区相对所述阻挡坝更远离所述显示区；

所述衬底包括第一底层、第二底层和位于所述第一底层和所述第二底层之间的底阻挡层；

所述第一底层、所述第二底层采用有机材料形成，所述有机材料包括聚酰亚胺；

所述底阻挡层采用无机绝缘材料形成，并在所述防裂加强区对应去除无机绝缘材料。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述防裂加强区与所述阻挡坝之间的距离范围为大于等于100μm。

3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述防裂加强区的所述有机膜层延伸至所述阻挡坝；

或者，所述防裂加强区与所述阻挡坝之间具有间隙域，所述间隙域的最表层为无机膜层。

4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述发光器件为有机发光器件或量子点发光器件。

5.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，在所像素结构远离所述衬底的一侧还设置有封装薄膜，所述封装薄膜覆盖所述阻挡坝且截止于所述防裂加强区靠近所述显示区的内缘。

6.根据权利要求1-5任一项所述的显示基板，其特征在于，所述防裂加强区的所述有机膜层的厚度总和，大于所述非显示区中与所述防裂加强区相邻的所述无机膜层和所述有机膜层的厚度总和。

7.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-6任一项所述的显示基板。

8.一种显示基板的制备方法，所述显示基板包括衬底，所述显示基板划分为显示区和位于所述显示区外围的非显示区，所述显示区具有多个像素区域，每一所述像素区域中均设置有像素结构，所述像素结构包括多个层叠设置的有机膜层和无机膜层，其特征在于，所述制备方法包括步骤：

将所述非显示区靠近边缘的区域设置为防裂加强区；

采用构图工艺，在所述显示区形成所述有机膜层的同时，相应的在所述防裂加强区保留至少一层所述有机膜层的有机材料，并使得所述有机膜层至少覆盖所述非显示区中与所述防裂加强区相邻的无机膜层的外缘表面；

在所述显示区形成任意所述无机膜层时，在所述防裂加强区去除对应所述无机膜层的无机材料；

所述像素结构包括控制元件以及发光器件，所述控制元件至少包括平坦化层，所述发光器件至少包括像素限定层，所述防裂加强区中仅形成有所述平坦化层和/或所述像素限定层；

在所述非显示区还设置有阻挡坝，所述防裂加强区相对所述阻挡坝更远离所述显示区；

所述衬底包括第一底层、第二底层和位于所述第一底层和所述第二底层之间的底阻挡层；

所述第一底层、所述第二底层采用有机材料形成，所述有机材料包括聚酰亚胺；

所述底阻挡层采用无机绝缘材料形成，并在所述防裂加强区对应去除无机绝缘材料。

9.根据权利要求8所述的显示基板的制备方法，其特征在于，采用构图工艺在所述显示区和所述防裂加强区形成所述有机膜层的制备过程包括：

采用有机材料在所述衬底上形成有机材料膜；

采用掩模板对所述有机材料膜进行曝光工艺，所述掩模板的图案使得对应着所述显示区的器件图形和所述防裂加强区为有机材料保留区；

通过显影工艺，去除所述有机材料膜除所述有机材料保留区部分的所述有机材料。