[发明专利]显示基板、显示基板的制备方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 201910005748.3 申请日: 2019-01-03
公开(公告)号: CN109728200B 公开(公告)日: 2022-02-08
发明(设计)人: 宋丽;蒋志亮;毛明 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 罗瑞芝;陈源
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 制备 方法 显示装置
【说明书】:

发明属于显示技术领域,涉及显示基板、显示基板的制备方法、显示装置。该显示基板包括衬底,显示基板划分为显示区和位于显示区外围的非显示区,显示区具有多个像素区域,每一像素区域中均设置有像素结构,像素结构包括多个层叠设置的有机膜层和无机膜层,非显示区靠近边缘的区域为防裂加强区,防裂加强区设置且仅设置有机膜层,有机膜层至少覆盖非显示区中与防裂加强区相邻的无机膜层的外缘表面。其通过在非显示区靠近边缘的区域设置防裂加强区以及在防裂加强区设置且仅设置有机膜层,可从根源上防止无机膜层受外力导致裂缝的产生并消除裂缝传递,还能缩窄边框、提升显示基板的抗冲击性能、节约切割能量、提高切割良率及切割效果。

技术领域

本发明属于显示技术领域,具体涉及显示基板、显示基板的制备方法、显示装置。

背景技术

在新一代的显示装置中,有机发光器件(Organic Light Emitting Diode,简称OLED)和量子点发光器件(Quantum Dots Light Emitting Diode,简称QLED)等显示模式具备色彩鲜艳、功耗低、薄型化可弯曲等优点,成为当前的研究热点。有机发光器件和量子点发光器件很容易被水氧侵蚀而失效,一般通过薄膜封装层(Thin Film Encapsulation,简称TFE)对发光材料做隔绝水氧的处理。

在当前的生产线上,是在显示基板(Panel)上布局多个显示器件区域,在各区域中形成预定数量的包括控制元件和发光器件的像素结构,最后经切割工艺形成各独立的显示器件。该显示器件在例如碰撞、运输等的外力作用下容易产生裂缝,尤其是在切割形成独立显示器件的过程中,不可避免地会造成显示器件的边框处产生裂缝(Crack),进而对显示器件的性能造成极大的影响。

可见,如何设置显示基板在非显示区的结构,从而提升显示器件的性能成为目前亟待解决的技术问题。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是针对现有技术中上述不足,提供一种显示基板、显示基板的制备方法、显示装置,其通过设置显示基板在非显示区有机膜层的布局结构,能有效提升显示器件的性能。

解决本发明技术问题所采用的技术方案是该显示基板,包括衬底,所述显示基板划分为显示区和位于所述显示区外围的非显示区,所述显示区具有多个像素区域,每一所述像素区域中均设置有像素结构,所述像素结构包括多个层叠设置的有机膜层和无机膜层,所述非显示区靠近边缘的区域为防裂加强区,所述防裂加强区设置且仅设置所述有机膜层,所述有机膜层至少覆盖所述非显示区中与所述防裂加强区相邻的所述无机膜层的外缘表面。

优选的是,在所述非显示区还设置有阻挡坝,所述防裂加强区相对所述阻挡坝更远离所述显示区。

优选的是,所述防裂加强区与所述阻挡坝之间的距离范围为大于等于100μm。

优选的是,所述防裂加强区的所述有机膜层延伸至所述阻挡坝;

或者,所述防裂加强区与所述阻挡坝之间具有间隙域,所述间隙域的最表层为无机膜层。

优选的是,所述像素结构包括控制元件以及发光器件,所述控制元件至少包括平坦化层,所述发光器件至少包括像素限定层,所述防裂加强区中仅设置有所述平坦化层和/或所述像素限定层。

优选的是,所述发光器件为有机发光器件或量子点发光器件。

优选的是,所述衬底包括第一底层、第二底层和位于所述第一底层和所述第二底层之间的底阻挡层;

所述第一底层、所述第二底层采用有机材料形成,所述有机材料包括聚酰亚胺;

所述底阻挡层采用无机绝缘材料形成,并在所述防裂加强区对应去除无机绝缘材料。

优选的是,在所像素结构远离所述衬底的一侧还设置有封装薄膜,所述封装薄膜覆盖所述阻挡坝且截止于所述防裂加强区靠近所述显示区的内缘。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910005748.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top