[发明专利]一种检测紧缩场反射面性能的方法和装置

权利要求书

1.一种检测紧缩场反射面性能的方法，其特征在于，包括：

在紧缩场静区横截面进行采样获取二维电场分布数据；

对所述二维电场分布数据进行二维傅立叶逆变换，获得测量信号的平面波谱分布数据；

确定电磁波在从采样点到反射面的传播过程中的空间变换函数，并利用所述空间变换函数对所述平面波谱分布数据进行处理，得到反射面的平面波谱分布数据；

对所述反射面的平面波谱分布数据进行二维傅立叶变换，得到反射面的二维电场分布数据；依据所述反射面的二维电场分布数据检测反射面性能。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，

所述方法进一步包括：以紧缩场静区中心为原点建立空间直角坐标系；其中，X轴方向为垂直方向，Y轴方向为水平方向，Z轴方向为静区中心指向反射面的方向；以及

所述采样的采样间隔满足以下公式：

其中，Δx为X方向的采样间隔，Δy为Y方向的采样间隔，λ为测量信号波长，D_x为反射面在X方向的长度，D_y为反射面在Y方向的长度，L_x为扫描面在X方向的长度，L_y为扫描面在Y方向的长度，z_min为采样点投影到反射面的最小距离。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述对所述二维电场分布数据进行二维傅立叶逆变换，具体包括：

利用以下公式对该二维电场分布数据进行二维傅立叶逆变换：

其中，F(k_x,k_y,z＝0)为所述测量信号的平面波谱分布数据，k_x为波数k在X方向的分量，k_y为波数k在Y方向的分量，E(x,y,z＝0)为采样获取的二维电场分布数据，j为虚数单位。

4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述空间变换函数如下式所示：

其中，H(k_x,k_y)为所述空间变换函数，z₀为从采样点投影到反射面的距离。

5.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述利用所述空间变换函数对所述平面波谱分布数据进行处理，具体包括：

将所述测量信号的平面波谱分布数据乘以所述空间变换函数。

6.根据权利要求2-5任一所述的方法，其特征在于，所述对所述反射面的平面波谱分布数据进行二维傅立叶变换，具体包括：

依据下式进行所述二维傅立叶变换：

其中，E(x,y,z＝z₀)为反射面的二维电场分布数据，F(k_x,k_y,z＝z₀)为反射面的平面波谱分布数据。

7.一种检测紧缩场反射面性能的装置，其特征在于，包括：

电场分布获取单元，用于在紧缩场静区横截面进行采样获取二维电场分布数据；

第一波谱分布计算单元，用于对所述二维电场分布数据进行二维傅立叶逆变换，获得测量信号的平面波谱分布数据；

第二波谱分布计算单元，用于确定电磁波在从采样点到反射面的传播过程中的空间变换函数，并利用所述空间变换函数对所述平面波谱分布数据进行处理，得到反射面的平面波谱分布数据；

检测单元，用于对所述反射面的平面波谱分布数据进行二维傅立叶变换，得到反射面的二维电场分布数据；依据所述反射面的二维电场分布数据检测反射面性能。