[发明专利]一种检测紧缩场反射面性能的方法和装置

说明书

本发明涉及一种检测紧缩场反射面性能的方法和装置，所述方法的一实施方式包括：在紧缩场静区横截面进行采样获取二维电场分布数据；对所述二维电场分布数据进行二维傅立叶逆变换，获得测量信号的平面波谱分布数据；确定电磁波在从采样点到反射面的传播过程中的空间变换函数，并利用所述空间变换函数对所述平面波谱分布数据进行处理，得到反射面的平面波谱分布数据；对所述反射面的平面波谱分布数据进行二维傅立叶变换，得到反射面的二维电场分布数据；依据所述反射面的二维电场分布数据检测反射面性能。该实施方式能够获取反射面的二维电场分布数据从而有效检测紧缩场反射面的性能。

技术领域

本发明涉及电磁散射测量领域，尤其涉及一种检测紧缩场反射面性能的方法和装置。

背景技术

反射面是紧缩场暗室的重要组成部分，其作用是将馈源辐射出的球面电磁波近距离地转换成平面波，形成一个满足远场测试要求的静区(即工作区)。反射面形状、交叉极化纯度、边缘衍射、锯齿边缘的设计等性能指标的好坏都会影响暗室静区大小与静区质量。特别地，实际暗室中的反射面由于加工精度、形变等因素的影响会进一步降低静区性能。

反射面性能检测是紧缩场暗室性能检验的一个技术难点。由于反射面固定安装在暗室中，测试其形变、损伤等指标的设备难以展开，并且反射面形变等物理尺寸的变化无法说明其对电磁反射的影响。现今常用检测方法是检验测试暗室静区的电场分布情况，但是静区场分布不仅仅包含反射面的影响，还包括暗室干扰源、多路径效应等多种杂散波的干涉，对反射面的性能诊断结果会造成干扰。

因此，针对紧缩场暗室反射面的电磁性能难以检测的情况，亟需一种检测紧缩场反射面性能的方法，为反射面性能检验、修复等提供技术支撑。

发明内容

本发明要解决的技术问题是如何有效检测紧缩场反射面的性能，为反射面性能检验、修复等提供技术支撑。

为了解决上述技术问题，在一个方面，本发明提供了一种检测紧缩场反射面性能的方法。

本发明实施例的检测紧缩场反射面性能的方法包括：在紧缩场静区横截面进行采样获取二维电场分布数据；对所述二维电场分布数据进行二维傅立叶逆变换，获得测量信号的平面波谱分布数据；确定电磁波在从采样点到反射面的传播过程中的空间变换函数，并利用所述空间变换函数对所述平面波谱分布数据进行处理，得到反射面的平面波谱分布数据；对所述反射面的平面波谱分布数据进行二维傅立叶变换，得到反射面的二维电场分布数据；依据所述反射面的二维电场分布数据检测反射面性能。

优选地，所述方法进一步包括：以紧缩场静区中心为原点建立空间直角坐标系；其中，X轴方向为垂直方向，Y轴方向为水平方向，Z轴方向为静区中心指向反射面的方向；以及

所述采样的采样间隔满足以下公式：

其中，Δx为X方向的采样间隔，Δy为Y方向的采样间隔，λ为测量信号波长，D_x为反射面在X方向的长度，D_y为反射面在Y方向的长度，L_x为扫描面在X方向的长度，L_y为扫描面在Y方向的长度，z_min为采样点投影到反射面的最小距离。

优选地，所述对所述二维电场分布数据进行二维傅立叶逆变换，具体包括：利用以下公式对该二维电场分布数据进行二维傅立叶逆变换：

其中，F(k_x,k_y,z＝0)为所述测量信号的平面波谱分布数据，k_x为波数k在X方向的分量，k_y为波数k在Y方向的分量，E(x,y,z＝0)为采样获取的二维电场分布数据，j为虚数单位。

优选地，所述空间变换函数如下式所示：