[发明专利]测量方法、装置和存储介质在审

专利信息
申请号: 201910010958.1 申请日: 2019-01-07
公开(公告)号: CN109612394A 公开(公告)日: 2019-04-12
发明(设计)人: 周建忠 申请(专利权)人: 成都中电熊猫显示科技有限公司
主分类号: G01B11/02 分类号: G01B11/02;G01B11/06;G02F1/13
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 荣甜甜;刘芳
地址: 610200 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 彩膜基板 测量 间隔带 标准片 测量参数 存储介质 标准参数 测试效率
【权利要求书】:

1.一种测量方法,其特征在于,包括:

根据每个类型的彩膜基板对应的测量参数,对每个类型的所述彩膜基板中的间隔带的标准片进行测量,获取每个类型的所述彩膜基板的间隔带的标准片的第一高度和第一宽度;

根据待测量彩膜基板对应的测量参数,对所述待测量彩膜基板中的间隔带的宽度和高度进行测量,获取所述待测量彩膜基板中的间隔带的第二高度和第二宽度;

根据所述第一高度、所述第一宽度、所述第二高度和所述第二宽度,获取所述待测量彩膜基板中的间隔带的测量结果。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述根据所述待测量彩膜基板对应的测量参数,对所述待测量彩膜基板中的间隔带的宽度和高度进行测量,获取所述待测量彩膜基板中的间隔带的第二高度和第二宽度,包括:

控制至少一个测量头移动至所述待测量彩膜基板中的间隔带上的标记位置处,并根据所述待测量彩膜基板对应的测量参数,对所述标记位置处的间隔带的宽度和高度进行多次测量,获取多个第三高度和多个第三宽度;

将多个所述第三高度的均值作为所述待测量彩膜基板中的间隔带的第二高度,将多个所述第三宽度作为所述待测量彩膜基板中的间隔带的第二宽度。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述根据所述待测量彩膜基板对应的测量参数,对所述待测量彩膜基板中的间隔带的宽度和高度进行测量之前,还包括:

根据所述待测量彩膜基板的类型,获取所述待测量彩膜基板对应的测量参数。

4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述根据所述第一高度、所述第一宽度、所述第二高度和所述第二宽度,获取所述待测量彩膜基板中的间隔带的测量结果,包括:

获取所述第一高度和所述第二高度的第一差值,以及所述第一宽度和所述第二宽度的第二差值;

若所述第一差值和所述第二差值均小于差值阈值,则确定所述待测量彩膜基板中的间隔带的测量结果为通过;

若所述第一差值或所述第二差值大于所述差值阈值,则确定所述待测量彩膜基板中的间隔带的测量结果为不通过。

5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:

若所述待测量彩膜基板中的间隔带的测量结果为不通过,则将所述第一差值或所述第二差值发送给修正装置,以使所述修正装置对所述待测量彩膜基板中的间隔带进行修正处理,使得修正后的所述待测量彩膜基板中的间隔带的所述第一差值和所述第二差值均小于所述差值阈值。

6.根据权利要求1-5任一项所述的方法,其特征在于,所述测量参数包括:测量镜头的类型和测量倍率。

7.根据权利要求1-5任一项所述的方法,其特征在于,所述标准片具有所述间隔带的预设宽度和预设高度,所述预设宽度与所述第一宽度相等,所述预设高度与所述第一高度相等。

8.一种测量装置,其特征在于,包括:

测量模块,用于根据每个类型的彩膜基板对应的测量参数,对每个类型的所述彩膜基板中的间隔带的标准片进行测量,获取每个类型的所述彩膜基板的间隔带的标准片的第一高度和第一宽度;

所述测量模块,还用于根据待测量彩膜基板对应的测量参数,对所述待测量彩膜基板中的间隔带的宽度和高度进行测量,获取所述待测量彩膜基板中的间隔带的第二高度和第二宽度;

测量结果获取模块,用于根据所述第一高度、所述第一宽度、所述第二高度和所述第二宽度,获取所述待测量彩膜基板中的间隔带的测量结果。

9.一种测量装置,其特征在于,包括:至少一个处理器和存储器;

所述存储器存储计算机执行指令;

所述至少一个处理器执行所述存储器存储的计算机执行指令,使得所述测量装置执行权利要求1-7任一项所述的方法。

10.一种计算机可读存储介质,其特征在于,所述计算机可读存储介质上存储有计算机执行指令,当所述计算机执行指令被处理器执行时,实现权利要求1-7任一项所述的方法。

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